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1.
原子光刻用亚稳态氖原子束源的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研制了一台用于原子光刻的亚稳态氖原子束源 ,其束流强度可达 3 3× 10 14 atoms/s·Sr.。研究了束流强度的变化规律 ,并对其机理进行了探讨。  相似文献   
2.
用亚稳态氖原子束进行了原子光刻实验。用栅网作掩膜 ,以扩散泵油的有机分子在高能亚稳态氖原子作用下所生成的碳膜作抗蚀剂 ,在硅片上刻蚀出分辨率为 2 μm的微结构 ,为进一步的纳米级原子光刻技术的研究打下了基础。  相似文献   
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