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1.
本文通过对DF100A短波发射机谐波滤波器原理的阐述分析,利用网络分析仪调整其阻抗,设置其最佳工作状态,具有一定的实用价值和借鉴意义.  相似文献   
2.
利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模。实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响。实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2%,±1级衍射效率大于40%,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要。  相似文献   
3.
便携式光谱仪的CCD智能检测器设计   总被引:2,自引:1,他引:1  
光谱仪是一种重要的检测仪器,CCD光谱仪正朝着小型化甚至微型化的方向发展。针对便携式光谱仪的特点及要求提出一种光谱仪CCD智能检测器设计方案,它结合了单片机智能化控制的特点和CPLD时序准确、可编程的优点。并且该检测器集成了USB数据接口,可通过计算机软件进行光谱采集,并能实时控制积分时间,实现了光谱仪CCD检测器的小型化、智能化和集成化。  相似文献   
4.
拉曼光谱检测常常受到荧光的干扰,影响了该技术的推广应用。移频激发差分拉曼光谱方法(SERDS方法)已被证明是一种有效的荧光抑制方法。SERDS实现荧光抑制的关键在于其特殊的激光光源,不仅要求其输出多个相近的波长,而且要求输出的激光功率较高、光谱线宽窄。采用Littrow光栅外腔半导体激光器原理设计实现了一种低成本、便携式的激光光源,可以在15nm的调谐范围内输出多个波长,光谱线宽小于0.2nm,输出功率可达80mW,适合用作移频激发差分拉曼光谱方法的多波长光源,实现拉曼光谱检测中对荧光干扰的抑制。  相似文献   
5.
电荷耦合器件CCD用于光谱测量时,其驱动器提供的电荷移位频率和积分时间对于测量至关重要。文章介绍了自行研制的用高速AVR单片机制作的驱动器和相关的整个数据采集系统。在我们的系统中移位频率和积分时间由程序设定,可由用户任意调节,而不需要用以往的改变硬件的方式来实现。文章同时给出了用CCD测量系统配合平场光谱仪测得的汞灯光谱。  相似文献   
6.
500/220kV同塔四回线路的耐雷性能研究   总被引:7,自引:4,他引:3  
为准确评估500/220 kV同塔混压四回输电线路的耐雷性能,在采用改进电气几何模型(EGM)与电磁暂态程序(EMTP/ATP)计算其绕、反击跳闸率后分析了避雷线保护角、杆塔呼称高度、地面倾角等对5002、20 kV线路绕击耐雷性能的不同影响及杆塔呼称高度、接地电阻、耦合地线架设方式等对500、220 kV线路反击耐雷水平的不同影响。计算结果表明,同塔混压四回线路中不同电压等级线路防雷击侧重点不同,即500 kV线路绕击相对严重,220 kV线路反击相对严重。最后提出了改善线路雷电性能、降低雷击跳闸率的措施,在实际工程中,建议从降低杆塔呼称高度、采用负保护角以及架设耦合地线等方面综合考虑。  相似文献   
7.
本文从大体积混凝土的温度应力影响因素、温度控制措施 (原材料、入模温度、施工工艺、混凝土的保温等 )、热工计算、温度监控等方面总结、介绍了大体积混凝土的温度与裂缝控制 ,可为同类工程借鉴和参考  相似文献   
8.
陈刚  吴建宏  刘全 《光学仪器》2007,29(6):81-84
为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应。分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略。将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同。槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的。驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离。  相似文献   
9.
光刻胶傅里叶全息图的记录条件对重构图像信噪比的影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
用光刻胶对具有不同空间频率的黑白二值条纹图像按各种不同条件记录了一系列傅里叶变换全息图 ,并用常规CCD摄像系统检测了重构图像的信息噪比 ,给出了信噪比与离焦量、参 -物光比和曝光量的关系曲线。实验结果表明 ,对给定的实验系统及记录介质存在一定的最佳离焦量和曝光量 ,对于不同空间频率的黑白二值条纹图像需要采用不同参 -物光比以获得最佳的信噪比。选择适当的记录条件可以对含有多种空间频率条纹的二值图像获得较好的重构效果。  相似文献   
10.
利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究.研究发现,在紫外写入波长(248 nm)下,为了使零级衍射效率<5%,且±1级的衍射效率>35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230~280 nm,占宽比必须控制在0.48~0.65.同时,与标量衍射理论的结果进行了分析对比.这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果.  相似文献   
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