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张弦桁架设计参数较多且相互影响,常伴有较大的几何非线性变形,因此需要精确寻找结构形状及预拉力,以获得结构整体性能的优化结果。在MATLAB平台上利用多种群遗传算法,通过命令流调用SAP2000,在对结构优化的同时,实现"找形"及"找力";第一阶段寻找各类构件的截面,发现桁架弦杆截面的改变对整体优化结果影响较小,在此基础上进行第二阶段结构整体优化。通过对10组模型优化,发现最优矢高、垂度、桁架上弦截面高度、初始预拉力与跨度呈显著线性上升变化,腹杆间距基本保持不变,而撑杆数目则在6~13范围内变化;通过分析得到各最优设计参数与跨度的方程,发现变化范围越大的参数线性程度越高,说明该方法可用于一般张弦桁架的优化。 相似文献
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采用溶胶-凝胶法制备了SiO2/TiO2粉体并采用XRD、TG-DTA及Uv-vis对其结构进行了表征.采用热沉积法将其负载于玻璃板上,以水中天然有机物腐殖酸和典型菌种大肠杆菌为代表物考察了SiO2/TiO2薄膜的光催化活性,并对其机理进行了推测.研究结果表明,SiO2/TiO2薄膜具有较高的光催化活性及抑菌作用.硅的引入不仅使催化剂的带隙变宽,提高了催化剂表面上光生e-h+的氧化还原能力,而且使催化剂表面出现了更多有利于光生空穴-电子转变为·OH的吸附氧,这是SiO2/TiO2薄膜使水中污染物降解及细菌灭活的主要原因. 相似文献
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采用电沉积方法在不同导电基体上制备出具有电化学控制离子交换(ESIX)性能的电活性NiHCF(nickel hexacyanoferrate)薄膜.在1 mol8226;L-1 KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放碱金属离子,比较了铂、铝和石墨基体上薄膜的电活性、离子交换容量及再生能力;在1 mol8226;L-1(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱,分析了薄膜对Cs/K离子的选择性.重点考察了制膜液组成对薄膜电化学性能的影响,通过EDS测定薄膜组成并结合循环伏安曲线分析了薄膜组成和结构与其电化学特性之间的关系.实验表明,3种基体材料上均能制得性能稳定的NiHCF膜,铝和石墨基体上的NiHCF薄膜同样具有良好的ESIX性能;控制制膜液组成可得到不同组分占优的膜,由此可筛选较为理想的ESIX膜材料. 相似文献
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预先将活性物前驱体置于碳黑层的Nafion微粒体内,利用脉冲电沉积法,使Pt或Pt合金优先沉积于Nafion与碳黑的接合部,以提高催化剂层贵金属的有效率.实验采用循环伏安法(CV)测定电极电催化活性,用XRD、EDS、TEM技术表征催化剂微观结构及金属微粒的元素组成.结果表明,toff/ton=3:1,WPtRu/wc=40%,Pt、Ru原子比为1:1,金属微粒的比表面积为92 m2·g-1、粒径为3.2nm,甲醇峰电流密度达到82 mA·cm-2,活性物的有效率达到79.1%. 相似文献
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多相光催化反应器数学模型研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
本文介绍了当前多相光催化反应体系中反应动力学模型以及反应器数模研究领域内的主要方法及成果。反应动力学方面依据反应机理和动力学方程进行了说明 ;反应器模型则按学术团体各自不同的研究思路及方法分别概述 ,并依照反应器内部的各相的情况作了分类 ,扼要介绍了辐射能分布方程。对未来此领域的研究方向作了展望。 相似文献
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LPCVD水解法制备TiO2薄膜 总被引:5,自引:0,他引:5
本文利用LPCVD法水解四异丙醇钛(TTIP)制备TiO2薄膜,研究了制备过程中水解TTIP的反应动力学。通过对沉积温度和沉积率关系的研究,计算出TTIP水解反应表观活化能为59.85kJ/mo1。沉积温度不仅影响反应速率,还对TO2薄膜结构、表面形貌有决定性的作用。XRD和Raman分析表明:TTIP水解法制备TiO2薄膜,薄膜结构主要依赖于沉积温度。180℃—220℃沉积TiO2薄膜为非晶态,240℃—300℃沉积为锐钛矿和非晶态混杂结构。在水分压对TTIP水解反应影响的研究中发现,水分压为零时,TTIP发生热解反应,TiO2沉积率不为零,热解反应240℃无锐钛矿特征峰出现。这说明水解反应制备TiO2有利于降低锐钛矿的生长温度。氧分子的加入可以消除TiO2薄膜表面的“针孔”。 相似文献
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以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜.通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol/l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命;在1 mol/l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性.实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜. 相似文献
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石墨基体NiHCF薄膜的离子交换性能 总被引:1,自引:0,他引:1
以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜.通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol/l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命;在1 mol/l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性.实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜. 相似文献