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1.
基于相变存储器的存储系统与技术综述   总被引:2,自引:0,他引:2  
随着处理器和存储器之间性能差距的不断增大,"存储墙"问题日益突出,但传统DRAM器件的集成度已接近极限,能耗问题也已成为瓶颈,如何设计扎实有效的存储架构解决存储墙问题已成为必须面对的挑战.近年来,以相变存储器(phase change memory,PCM)为代表的新型存储器件因其高集成度、低功耗的特点而受到了国内外研究者的广泛关注.特别地,相变存储器因其非易失性及字节寻址的特性而同时具备主存和外存的特点,在其影响下,主存和外存之间的界限正在变得模糊,将对未来的存储体系结构带来重大变化.重点讨论了基于PCM构建主存的结构,分析了其构建主存中的写优化技术、磨损均衡技术、硬件纠错技术、坏块重用技术、软件优化等关键问题,然后讨论了PCM在外存储系统的应用研究以及其对外存储体系结构和系统设计带来的影响.最后给出了PCM在存储系统中的应用研究展望.  相似文献   
2.
拜占庭系统技术研究综述   总被引:5,自引:2,他引:3  
范捷  易乐天  舒继武 《软件学报》2013,24(6):1346-1360
随着分布式系统规模的增大,设计复杂度也不断提升,系统可靠性所面临的问题也越来越严峻。由于拜占庭协议能够容忍包括人为失误、软件bug和安全漏洞等各种形式的错误,其系统技术和实现方法越来越受到研究者们的重视。介绍和总结了目前拜占庭系统技术的研究成果,分析了目前拜占庭系统的研究现状,并探讨了拜占庭系统的发展趋势。通过分析得出:1)拜占庭系统性能上仍然与已经实用的非拜占庭系统相距较大,占用资源数量仍然较多,需要进一步研究其性能和资源优化技术;2)通过检测错误或者定期修复来降低系统中的错误,是延长系统可持续运行时间的方法,需要研究新的、高效的全面检测拜占庭服务器、合理定期修复等保障系统可持续运行的方法;3)实际应用背景和需求及其特定错误类型的处理方法对拜占庭协议和功能等提出了不一样的要求,需要研究拜占庭系统在实际中的应用和可用性。  相似文献   
3.
内燃机活塞工作在高温高压的环境下,活塞温度准确可靠的测量一直是活塞研究的难题。近距离无线射频测量是近年来发展起来的一种新型测量方法。采用Cypress的PSoC器件设计的无线射频活塞温度测量系统,具有可靠性高、功耗低、重量轻,并且通过软件编程即可改变系统的功能和测量范围,可应用于各种类型的活塞温度测量。  相似文献   
4.
笔者有幸参加了94年5月16日—5月20日在山东省青州市举办的中日皮革技术交流会,本次交流会由日本吉川制油株式会社、台湾泛麒股份有限公司和青州市制革厂共同发起,烟台皮革研究所作为吉川、泛麒的技术服务处派员参加,笔者过去虽参加过不少此类交流会,唯有此次印象最深,会后感想万千,集其要者作为杂感,与读者商榷。  相似文献   
5.
2004年,紫光机械有限公司又面临前所未有的市场销售形势,印后装订机械及特种机械产品供不应求.出现这样可喜的市场形势,除了全体干部员工的共同努力外,另外就是依靠对产品的持续改进和不断开发. 2003年,紫光公司按照上海电气(集团)总公司关于开展"认清使命,破解难题,创新发展"主题活动的要求,通过组织大讨论,使干部员工充分认识到加快对产品的持续改进以及不断开发新产品对企业发展的重要意义,充分看到国内印刷机械市场发展趋势,我公司新产品开发所面临的机遇,通过落实具体措施,做好推动企业发展的大文章.  相似文献   
6.
范捷 《中国包装》2007,27(5):97-98
二十一世纪以来,随着世界政治、经济格局的变动,切纸机行业的竞争态势发生了很大的变化,竞争的形式也多种多样。但分析其实质是竞争的形式开始从产品的竞争阶段进入品牌竞争阶段。在产品逐步趋向同质化的今天,品牌毫无疑问成了企业营销、竞争力的核心。  相似文献   
7.
硅片翘曲对光刻条宽均匀性的分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过对硅片翘曲情况及AZ603-14cp正性光刻胶的测试,在步进光刻机的聚焦曝光原理基础上分析了硅片翘曲对条宽均匀性的影响.从而得到了在集成电路,尤其是小尺寸集成电路的制造中硅片平整度的重要性.  相似文献   
8.
针对传统的Max-Log-Map译码算法时效性差、存储空间开销大的特点,本文对传统的Max-Log-Map译码算法进行了改进。改进的算法对前、后向度量使用了蝶形结构图,便于DSP实现;将原始帧均分为多个子块,设计子块间的并行运算以减小系统延迟;子块内采取进一步地优化措施,以减小数据存储量并提高译码速率。在DSP C6416平台上的仿真结果表明了算法的可实现性与可靠性。  相似文献   
9.
本文通过对硅片翘曲情况及AZ603—14cp正性光刻胶的测试,在步进光刻机的聚焦曝光原理基础上分析了硅片翘曲对条宽均匀性的影响。从而得到了在集成电路,尤其是小尺寸集成电路的制造中硅片平整度的重要性。  相似文献   
10.
一、引言我公司集成电路生产用铝靶都是进口铝靶,不仅耗费大量外汇,而且时有短缺现象,影响生产进程。如果采用国产靶代替,则不仅大大降低生产成本,又可缓解靶材依赖国外的情况,因此我们对IC生产用铝靶的材质进行了分析研究。二、分析方法我们分析了两种不同硅含量(43PPm和1%)的铝靶,共八个作品,四个样品直接取自用剩的铝靶,另四个样品通过蒸发工艺制备。分析仪器应用法国CAMECA公司的IMS-3f二次离子质谱仪,分别做了质谱分析,线扫描分析、深度分布分析和图像分析。三、分析结果和讨论从质谱图1中可明显地看到铝靶中含有…  相似文献   
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