离子注入用高低温变温靶室

本文介绍了一个在77-800K范围可变温度下进行离子注入和就地电学测量的靶室。该靶室曾为金属、硅化物以及某些超导材料的离子束混合实验在10W左右的束流功率下使用了几年,温度漂移在±3K。     

离子注入磁记录材料的试验研究

离子注入用于金属材料表面改性,特别是提高金属表面的耐磨损、耐腐蚀能力的试验研究已开始向工业应用的方向过渡。目前这方面的研究成果已在英国、美国、日本、苏联等国申请了专利,其中用于磁头表面处理的专利申请就占有两项。为此,我们分别试验了硼离子、氮离子注入坡莫合金磁头材料,研究其组织、结构的变化,测量了坡莫合金离子注入前后的磁性能、表面硬度、表面光洁度、耐磨损性能以及成品磁头离子注入前后的电声性能,取得了一些初步的试验结果。     

溅射负离子源靶的制作与使用

研究制作了多种溅射负离子源靶,在2×1.7MV串列加速器上采用Middleton-Ⅶ型溅射负离子源引出了流强大、稳定的30多种元素的负离子束。探讨了靶的材料、形状和尺寸等因素对束流质量的影响,以及如何通过控制铯蒸汽、电离器电流、靶压和靶位等来改善束流的质量,提高靶及电离器的寿命,降低源体的污染等。