化矿实验室设计与施工

随着出入境商品的多元化、复杂化,很多地方的质检部门在不断加大设备投入的同时也对实验室进行了改造或重建。特别是实验室的重新规划设计和建设,是一项十分复杂的系统工程,做好这项工作需要创新,更需要经验积累。结合实验室基建工作实践,总结了经验、提出了看法。     

采用MBDM法获得高性能高分子膜的研究

采用多束动态混合法在３０４不锈钢样品表面成功地制备出ＰＴＦＥ（聚四氟乙烯）和ＰＥＥＫ（聚醚醚酮）混合的高性能高分子复合膜，共结合力约７０Ｎ，耐蚀能力提高２０倍，摩擦系数达到０．０７￣０．１４，比授能吸收剂量在于１０＾６Ｇｙ。     

空气介质阻挡放电等离子体亚麻表面处理提高接枝率研究

采用空气大气压介质阻挡放电对亚麻织物进行表面处理,在处理后的亚麻表面接枝聚合丙烯酸,进而提高亚麻织物的上染率.用SEM观察了亚麻的表面形貌,用热分析方法与红外光谱证实接枝的有效性,用吸收光谱法评定了接枝率.研究了放电电压、处理时间对接枝率的影响,发现随放电电压的升高,接枝率升高;随处理时间的增加,接枝率在前30 s处理时间内迅速增加,随处理时间的进一步延长,接枝率反而下降,最后呈现一种饱和的趋势,接枝率最大提高为46.6%.染色照片表明染色的不均匀性应该是染色过程造成的.     

介质阻挡放电聚乙烯表面能改性

介质阻挡放电(DBD)处理聚合物表面可有效提高其亲水性和结合强度.利用不同工作气体(氮气和空气)的DBD对聚乙烯(PE)表面能进行改性.N2-DBD处理PE30min后其表面水接触角达到19.3°,而空气-DBD处理后最小只能达到28.7°.红外吸收光谱与原子力显微镜分析其表面发现出现新的化学基团,且形貌变得相对粗糙.随处理时间的增加,经N2-DBD和空气-DBD处理的PE无论从表面成分还是表面形貌看,前者都比后者变化程度更大.     

等离子体离子源磁场分布数值计算

在离子源的设计中，为了减少等离子体的器壁复合损失，经常采用磁场对等离子体进行约束；但磁场分布的复杂性，给实际测量带来了困难。介绍采用磁荷法对低能辐照离子源中磁场分布进行计算，给出了计算结果，并讨论了误差可能产生的原因及其影响。计算结果对于离子源设计中的阴极热电子发射、离子束有效引出面积确定体的有效约束等重要问题有一定参考价值。     

大气压氦气介质阻挡放电模式转换的研究

通过电压-电流波形和发光图片研究了大气压氦气介质阻挡放电中的模式转换现象．实验结果表明了通过改变外加电压的大小，可以引起放电模式的变化．随着电压的逐渐升高，放电依次经历汤生放电、局域辉光放电和辉光放电．局域辉光作为从汤生放电向辉光放电的一个过渡阶段。     

大气压脉冲放电等离子体的研究现状与展望

近年来,大气压脉冲放电等离子体研究受到了人们的格外关注.研究表明与交流驱动相比,脉冲放电产生大气压等离子体具有许多优势,如它的VUV、氧原子、及臭氧的产生效率高;峰值电流密度、电子密度、及电子产生效率也更高;在对介质表面处理时能达到更好的处理效果和更高的效率;还更易产生均匀的大面积等离子体;所产生等离子体的非平衡性更高;灭菌效果也更好等优点.但是,对于脉冲放电的放电机理,放电模式,及脉冲参数(上升沿和下降沿、重复频率、脉冲宽度等)对放电效果的影响,现在的研究还非常有限,且很零散.这一方面是由于大气压放电诊断本身就很困难,另一方面,由于脉冲放电快速的时空演化过程进一步加大了对其诊断的难度.再者,对其研究还受到脉冲电源参数的限制.本文对国际上大气压脉冲放电等离子体最新研究的代表性研究成果做了一个综述,并对今后的研究方向提出了几点建议.     

高密度等离子体增强非平衡磁控溅射沉积Cu膜研究

采用直流非平衡磁控溅射射频等离子体增强电高法在Si衬底上沉积了Cu膜,用扫描电镜（SEM）研究了沉积Cu膜的表面形貌并测得薄膜的厚度,用X射线衍射（XRD）研究了沉积Cu膜的结构,用电子能谱等对Cu膜进行了成分分析．实验结果表明,在该条件下沉积的Cu膜致密,晶粒尺度在100～1000nm,膜基界面比较紧密,没有明显的空洞,并且Cu膜呈（111）织构．通过实验,找到沉积Cu膜的最佳实验参数,并希望这一工艺能应用在集成电路中．