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在不同温度衬底上射频磁控溅射沉积ZrO2-12wt%Y2O3薄膜进行了不同方式的退火后处理。其一为1000℃大气气氛下的热退火处理,其二为高真空渗氧条件下的电子束退火处理。退火前后的相结构和显微形貌的研究表明,退火前的沉积膜相组成与沉积过程中衬底温度有关,退火后的沉积膜相组成与退火方式有关,其形貌特征经不同形式退火显示出明显的差别。 相似文献
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不同工艺规范的离子束、电子束,原子束结合沉积NiCoCrAlYZrO_2·Y_2O_3热障复合涂层试样进行了1000℃ 300小时等温氧化及金相、电子探针、XRD分析。结果表明,沉积的涂膜具有优良的抗氧化性能,基体缺陷导致涂膜局部剥落是本试样涂层高温氧化失效的原因。 相似文献
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离子注入是在高真空下以一定的能量将离子注入金属材料表面的一种技术,可明显地提高金属的耐磨性、耐疲劳性、表面硬度、耐蚀性及抗高温氧化性。与常规的整体合金化方法及扩散渗透、镀层等表面处理相比较,离子注入法有不受热力学平衡相图、扩散规律限制,节约合金原料及不存在明显界面等突出的 相似文献
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一、引言离子注入是一种表面处理新技术,最先应用于半导体材料的掺杂。70年代,人们研究将其用于金属材料的表面改性,发现该技术与常规的整体冶金及扩散渗镀等方法相比有着不受热力学平衡相图、扩散规律限制,节约合金原料及不存在明显界面等优点,因而受到国内外的重视。国外已制出多种商用离子注入机,将该技术用于工业材料处理。国内研究开始较晚,尚未见到实际工业应用。在各种离子的注入中研究最多的是氮离子。氮离 相似文献
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