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1.
AAO模板法制备Pd-Ni合金纳米线   总被引:8,自引:0,他引:8  
在孔深60gm,直径200nm的通孔氧化铝模板中,用60mmol·dm^-3。Pd(NH3)4Cl2+40mmol·dm^-3NiSO4·6H2O+0.2mol·dm^-3NH4Cl,pH8.5和70mmol·dm^-3。Pd(NH3)4Cl2+30mmol-dm^-3NiSO4·6H2O+0.2mol·dm^-3NH4Cl,pH8.5的2种电解液,采用直流电沉积的方法制备钯镍合金纳米线阵列。借助扫描电子显微镜(SEM)和X-射线能谱仪(EDX)表征纳米线的形貌和成分。结果表明,用-0.6V~-0.8V(vsSCE)的直流电沉积,在氧化铝(AAO)模板中可以成功地制备出镍含量在8%~15%(质量分数,下同)之间的Pd-Ni合金纳米线有序阵列,其直径和模板的孔径是一致的。沉积电势负移将使得电流密度增加,有利于合金中电势较负金属镍含量的增大。  相似文献   
2.
为更好地了解Pd-Co合金的材料特性,采用电沉积法制备了Pd-Co合金镀层.通过扫描电镜(SEM)和动电位扫描(Tafel)对Pd-Co合金镀层的表面形貌和耐蚀性进行了考察。结果表明,Pd-Co合金镀层的晶粒尺寸和表面形貌受镀液中Co^2+浓度和电流密度的影响较大,随着镀液中Co^2+浓度的增加,镀层的晶粒尺寸逐渐减小,晶粒从片状变为球状;随着电流密度的增大,Pd-Co合金镀层的晶粒从粒状变为块状,晶粒尺寸呈先减小后增大的趋势。当电流密度小于1.0A/dm^2时,Pd—Co共沉积过程受阴极极化控制;当电流密度大于1.0A/dm^2时,其沉积过程受浓差极化控制。Pd-Co合金镀层的耐蚀性按腐蚀介质为中性、酸性、碱性的顺序逐步降低。  相似文献   
3.
铑电镀工艺的研究现状与展望   总被引:1,自引:0,他引:1  
对铑电镀工艺的铑盐制备、基材选择、镀液成分、镀覆条件、镀液维护及贵金属铑的回收、镀层性能等方面的研究现状进行了综述,并展望了其今后的发展趋势.  相似文献   
4.
酸性化学镀镍工艺研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
通过沉积速度、镀层耐蚀性和镀液稳定性的测试实验,研究了酸性化学镀镍工艺中复合添加剂,如稳定剂、络合剂、加速剂浓度对化学镀液速度、稳定性,镀层耐蚀性的影响,确定了所用添加剂的最佳浓度和工艺条件。当温度在90℃,pH在5.5时,所得镀层含磷量为7.8%,镀层光亮、耐蚀性优良。  相似文献   
5.
利用电化学工作站,探讨了不同基材上硫酸铑体系镀铑的开路电位和极化曲线,并讨论研究了不同基材上电沉积铑的电流效率.同时通过中性盐雾实验、镀层结合力测试,研究和比较了不同基材上铑镀层的性能.结果表明:不同的电镀基材在硫酸铑体系中对其阴极极化的影响不明显;以镍为基材镀铑时,具有开路电势低、电流效率低、白度高、结合力好等特点;以钯为基材时,具有开路电势高、耐蚀性强等特点;以银为基材时,具有电流效率高、结合力好等特点.  相似文献   
6.
压电陶瓷片全光亮可焊性化学镀工艺   总被引:2,自引:0,他引:2  
研究了一种用于压电陶瓷片全光亮的化学镀工艺,代替传统二次涂覆银工艺,在降低生产成本、保护良好的可焊性、提高生产效率和产品外观等方面取得了满意效果。  相似文献   
7.
电沉积钯钴合金的工艺研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
电沉积钯镍合金存在质量控制困难、热稳定性差及易引起皮肤过敏等问题,而钯钴合金能克服这些不足,且比Pd-Ni合金具有更高的耐磨性、耐蚀性及热稳定性.通过极化曲线研究了钯钴合金的电沉积行为,并讨论了镀液中钴钯离子质量比、温度、pH值以及电流密度等工艺参数对电沉积钯钴合金组成的影响,获得了电沉积钯钴合金的最佳工艺条件为:镀液温度35℃,pH值8.5,电流密度10 A/dm2.结果表明:钴的极化大,极化度也大;电沉积时,钯催化钴沉积,钯钴合金共沉积时呈现与钯相似的阴极行为.合金组成是各工艺参数的函数,钯钴合金镀层中钴的含量随镀液中Co2 /Pd2 质量比的增大而线性增加,随电流密度的增大而显著增大.镀液温度、pH值均对镀层成分有一定的影响.  相似文献   
8.
低速电沉积钯镍合金工艺的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
通过极化曲线研究了钯、镍的电沉积行为.讨论了钯镍浓度比、pH值、电流密度、沉积电势等工艺参数对低速电沉积钯镍合金组成的影响.结果表明:与钯相比,镍的极化大,极化度也大;电沉积合金时,钯催化镍的沉积,而镍阻化钯的沉积.合金组成是各工艺参数的函数,镀液中钯、镍离子浓度比是影响合金成分的主要因素.随着镀液中Ni/Pd值的增大,合金中镍含量呈线性增加;pH值升高,合金中镍含量降低;电流密度增大或者沉积电势负移,合金中镍含量增加;沉积电势对合金成分的影响更显著,成分更易控制.  相似文献   
9.
铑电镀液中铑含量不同测定方法的比较   总被引:2,自引:0,他引:2  
铑作为一种贵金属,准确测定其在镀液中的含量非常重要.通过对铑的标准浓度溶液进行重量法、等离子体发射光谱法(ICP)、火焰原子吸收光谱法(FAAS)和改进后的FAAS(引入一个校正因子, 对FAAS测定方法进行了优化、校正)等不同方法的测定,比较了不同测定方法的适用范围和精确度.结果表明:对于杂质少的铑电镀液,宜采用重量法测定,其测定偏差在4%以内,硼氢化钠作为还原剂的重量法的测定偏差可控制在0.2%以内;对于杂质多的铑电镀液,用ICP,改进后的FAAS均能获得满意结果,相对偏差都小于1% .  相似文献   
10.
通过耐蚀性人工汗试验、镀层结合力测试、镀层厚度测试以及电镀成本的核算等方法,研究和比较了以钯为基材的镀铑新工艺和以镍为基材的常规镀铑工艺.结果表明:基材和铑镀层的厚度增加时,镀铑产品的耐蚀性会增强,而铑镀层的厚度增加时,耐蚀性增强尤为明显;以钯为基材的镀铑产品外观色泽好、结合力强,较常规工艺有较强的耐蚀性和低廉的镀铑成本,耐蚀时间最高提高了87.5%,在耐蚀性相当的情况下,可节约成本达24%以上.  相似文献   
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