排序方式: 共有19条查询结果,搜索用时 46 毫秒
1.
AAO模板法制备Pd-Ni合金纳米线 总被引:8,自引:0,他引:8
在孔深60gm,直径200nm的通孔氧化铝模板中,用60mmol·dm^-3。Pd(NH3)4Cl2+40mmol·dm^-3NiSO4·6H2O+0.2mol·dm^-3NH4Cl,pH8.5和70mmol·dm^-3。Pd(NH3)4Cl2+30mmol-dm^-3NiSO4·6H2O+0.2mol·dm^-3NH4Cl,pH8.5的2种电解液,采用直流电沉积的方法制备钯镍合金纳米线阵列。借助扫描电子显微镜(SEM)和X-射线能谱仪(EDX)表征纳米线的形貌和成分。结果表明,用-0.6V~-0.8V(vsSCE)的直流电沉积,在氧化铝(AAO)模板中可以成功地制备出镍含量在8%~15%(质量分数,下同)之间的Pd-Ni合金纳米线有序阵列,其直径和模板的孔径是一致的。沉积电势负移将使得电流密度增加,有利于合金中电势较负金属镍含量的增大。 相似文献
2.
为更好地了解Pd-Co合金的材料特性,采用电沉积法制备了Pd-Co合金镀层.通过扫描电镜(SEM)和动电位扫描(Tafel)对Pd-Co合金镀层的表面形貌和耐蚀性进行了考察。结果表明,Pd-Co合金镀层的晶粒尺寸和表面形貌受镀液中Co^2+浓度和电流密度的影响较大,随着镀液中Co^2+浓度的增加,镀层的晶粒尺寸逐渐减小,晶粒从片状变为球状;随着电流密度的增大,Pd-Co合金镀层的晶粒从粒状变为块状,晶粒尺寸呈先减小后增大的趋势。当电流密度小于1.0A/dm^2时,Pd—Co共沉积过程受阴极极化控制;当电流密度大于1.0A/dm^2时,其沉积过程受浓差极化控制。Pd-Co合金镀层的耐蚀性按腐蚀介质为中性、酸性、碱性的顺序逐步降低。 相似文献
3.
4.
5.
利用电化学工作站,探讨了不同基材上硫酸铑体系镀铑的开路电位和极化曲线,并讨论研究了不同基材上电沉积铑的电流效率.同时通过中性盐雾实验、镀层结合力测试,研究和比较了不同基材上铑镀层的性能.结果表明:不同的电镀基材在硫酸铑体系中对其阴极极化的影响不明显;以镍为基材镀铑时,具有开路电势低、电流效率低、白度高、结合力好等特点;以钯为基材时,具有开路电势高、耐蚀性强等特点;以银为基材时,具有电流效率高、结合力好等特点. 相似文献
6.
7.
电沉积钯钴合金的工艺研究 总被引:3,自引:1,他引:2
电沉积钯镍合金存在质量控制困难、热稳定性差及易引起皮肤过敏等问题,而钯钴合金能克服这些不足,且比Pd-Ni合金具有更高的耐磨性、耐蚀性及热稳定性.通过极化曲线研究了钯钴合金的电沉积行为,并讨论了镀液中钴钯离子质量比、温度、pH值以及电流密度等工艺参数对电沉积钯钴合金组成的影响,获得了电沉积钯钴合金的最佳工艺条件为:镀液温度35℃,pH值8.5,电流密度10 A/dm2.结果表明:钴的极化大,极化度也大;电沉积时,钯催化钴沉积,钯钴合金共沉积时呈现与钯相似的阴极行为.合金组成是各工艺参数的函数,钯钴合金镀层中钴的含量随镀液中Co2 /Pd2 质量比的增大而线性增加,随电流密度的增大而显著增大.镀液温度、pH值均对镀层成分有一定的影响. 相似文献
8.
低速电沉积钯镍合金工艺的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
通过极化曲线研究了钯、镍的电沉积行为.讨论了钯镍浓度比、pH值、电流密度、沉积电势等工艺参数对低速电沉积钯镍合金组成的影响.结果表明:与钯相比,镍的极化大,极化度也大;电沉积合金时,钯催化镍的沉积,而镍阻化钯的沉积.合金组成是各工艺参数的函数,镀液中钯、镍离子浓度比是影响合金成分的主要因素.随着镀液中Ni/Pd值的增大,合金中镍含量呈线性增加;pH值升高,合金中镍含量降低;电流密度增大或者沉积电势负移,合金中镍含量增加;沉积电势对合金成分的影响更显著,成分更易控制. 相似文献
9.
铑电镀液中铑含量不同测定方法的比较 总被引:2,自引:0,他引:2
铑作为一种贵金属,准确测定其在镀液中的含量非常重要.通过对铑的标准浓度溶液进行重量法、等离子体发射光谱法(ICP)、火焰原子吸收光谱法(FAAS)和改进后的FAAS(引入一个校正因子, 对FAAS测定方法进行了优化、校正)等不同方法的测定,比较了不同测定方法的适用范围和精确度.结果表明:对于杂质少的铑电镀液,宜采用重量法测定,其测定偏差在4%以内,硼氢化钠作为还原剂的重量法的测定偏差可控制在0.2%以内;对于杂质多的铑电镀液,用ICP,改进后的FAAS均能获得满意结果,相对偏差都小于1% . 相似文献
10.