基于ECE R22.05标准的头盔缓冲层防碰撞性能实验研究

基于ECE R22.05标准对头部损伤判断准则（HIC）及峰值加速度（Peak ACC）指标测试的规定,构建了以双密度串并联结构EPS缓冲层的越野型头盔模型,试制了不同缓冲层密度设计的头盔样品,采用平砧法对其碰撞过程动态特性进行测试分析.实验结果表明：HIC及Peak ACC值与EPS缓冲层的密度设计有关;当EPS密度取0.06g/cm3时头盔的Peak ACC和HIC值最小;双密度串并联结构缓冲层能有效降低上述指标的数值,吸能效率大于76％,能为头部提供有效防护.     

头盔标准ECE R22-2002和GB 811-2010机械强度项目对比及完善性研究

以对比的方法对安全头盔标准ECE R22-2002和GB 811-2010差异性进行了研究,对两个标准中的冲击测试、佩戴装置强度性能测试、刚性测试、佩戴装置稳定性测试、穿透测试、突出物和摩擦测试等机械强度检测项目进行了详细的对比分析,为头盔设计和检测人员总结了需要注意的事项,对两套标准在机械强度检测项目上的完善提出了建设性意见.     

灯具标准GB7000．1与UL1598若干电气检测项目差异性分析及完善性研究

本文重点比较了GB7000．1灯具标准与UL1598灯具标准中接地电阻、电气强度、电气间隙及爬电距离在其试验设备、试验参数、合格性判定等方面的差异性，并为灯具设计人员及检测人员总结出了需要注意的事项。在比较两套标准电气安全项目设置优缺点的基础上，本文还就如何使两套标准中电气安全检测项目的编写更为合理提出了一些探索性建议。     

GB 7000.1与UL 153灯具标准之机械强度相关要求的产品设计指导性研究

重点比较了UL 153灯具标准与GB 7000.1灯具标准中有关机械强度要求的若干试验。在详细比较了跌落试验、挤压试验、弹簧锤冲击试验的试验对象、试验设备、试验参数、合格判定等方面内容的基础上,就如何使机械强度试验项目的编写更具有设计指导性,更趋合理提出了一些探索性建议,并为灯具设计人员总结出了需注意的事项。     

国内禅宗美学与艺术设计关联性研究文献综述

文章旨在对禅宗美学与艺术设计关联性的研究现状进行综述,为学界进一步开展禅宗美学视域下中国当代设计方法与实践提供有参考价值的研究路径.运用禅宗美学、妙悟、不二法门、日本禅宗、禅宗设计等关键词收集、筛选中国知网上的文献,运用文献实证研究方法梳理与评述禅宗美学核心范畴、禅宗美学特征与传统艺术、禅宗美学与当代设计三个方面的代表...     

新会侨乡火画扇工艺田野调查纪实

通过实习调研的方法对江门新会地区的传统工艺火扇画进行了纪实采风。主要对火扇画的生存现状、工艺流程以及人才培养等方面进行了详细的考察,并提出了火画扇未来发展的建议。     

论传统纹样吉祥寓意在现代中式灯具设计中的应用

在对现代中式灯具市场现状及都市人群消费心理共性分析的基础上,就如何将传统纹样的吉祥寓意恰如其分地运用于中式灯具设计之中,以迎合消费者的心理诉求提出了一些可行且具有实践性指导意义的设计方法论,并以团圆圆满、尊贵显赫、平和宁静的寓意为例,详细分析了吉祥纹样寓意在中式灯具设计中的应用过程。     

集群式创新驱动下新会葵艺载体设计研究

目的 通过调研五邑新会葵艺传承困境及产业现状,反思手工艺思维为主的传统手工艺保护范式的缺失,以集群式创新理论为视角,集合具体的设计实践,探索五邑地区非物质文化遗产传承及发展的新思路。方法 基于产业集群式创新理论模式,在产品的载体创新上寻找新会葵艺与五邑地区其它非遗之间的内在联系,在创作主体上尝试融合五邑地区的多方力量,当中特别注重不同非遗传承人（机构）的合作,以提高产品的创新层次。以“归巢”葵艺灯、葵叶红木灯、江门侠为设计实践,论证该理论驱动新会葵艺创新式保护的可行性。 结论 非物质文化遗产集群式创新理论可以有效打破新会葵艺内在的封闭性,提高新会葵艺产品载体的创新层次,亦可为中国非物质文化遗产传承提供了新的方法。     

校企双向驱动的地方院校设计人才培养模式

当前产业转型升级的大环境下,企业对于设计人才提出了新的要求,地方院校应与地方产业积极开展产学研合作,找到一条能够平衡各方利益、合作共赢的发展之路。基于产学研平台合作的“校企双向驱动”的设计人才培养模式。在高校教学团队与企业研发团队、项目教学与项目研发、培养模式与市场需求之间能够建立双向互动关系,井且能够整合高校的教学资源、创新资源和企业的生产资源、市场资源。最终实现多方共赢。     

头盔标准ECE—R22／05和GB811—2010的差异性和完善性研究木

通过对比的方法对现行欧盟头盔标准ECE—R22／05和中国头盔标准GB811—2010进行研究,从头盔分类、检测项目设置和同类检测项目方面分析了两个标准的差异,并提出建议,为头盔的设计、生产和检测提供参考。