珍珠岩抛光磨料制备技术研究

本文提出一种湿法制备技术利用珍珠岩层矿制备珍珠岩抛光磨料。与传统干法工艺相比，珍珠岩抛光磨料产品产率从30％提高到70％以上，颗粒粒度百分之百小于150μm，而0-44μm粒级含量不到10％。粒度分布更加合理，完全满足玻壳行业及相关行业的要求。湿法制备珍珠岩抛光磨料是珍珠岩加工业充分合理利用珍珠岩层矿的十分有效的利用途径。     

磁性坡缕石复合材料的制备及性能

以提纯和超细制备的纳米坡缕石矿浆与纳米Fe3O4磁性流体复合,经加热和活化处理后,制备了外包磁性微粒的磁性坡缕石纳米复合材料.当每100 g坡缕石中加入24 g纳米磁性微粒时,磁场对磁性坡缕石纳米复合材料的截留量为90.2%,其磁化率为4.3×10-2.利用化学分析、X射线衍射、红外光谱、透射电镜及磁性能测试等分析手段对磁性坡缕石复合材料进行了表征及磁性能测试,结果表明:所制备的坡缕石磁性复合材料具有高分子靶向药物载体材料的功能,有望成为新型靶向药物载体材料.     

机械力化学改性硅灰石/聚丙烯性能的研究

利用气流磨对硅灰石进行机械力化学改性，并用IR分析对改性效果进行了预评价；对比了用改性前后的硅灰石填充聚丙烯(PP)的性能。结果表明：改性后硅灰石分别为由亲水疏油性变为亲油疏水性；硬脂酸质量分数为1．5％时，改性硅灰石／PP复合材料的拉伸强度和冲击强度最好。     

有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究

本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98 nm,同时根据XRD结果作者推测出蒙脱石插层结构排列演变模式为单层平卧→倾斜单层→假三层→倾斜双层.其中倾斜单层结构中能达到的最大层间距3.22 nm.     

锂离子电池正极材料LiNiO2存在的问题与解决办法

锂离子电池正极材料LiNiO2存在合成困难、循环性能差和热稳定性差等问题．这些问题都与LiNiO2本身的晶体结构有关．本文从LiNiO2晶体结构入手，分析了产生这些问题的原因，并对解决这些问题的办法进行了简要的综述．现有研究资料表明，仅仅通过优化合成条件只能在一定程度上改善LiNiO2的循环性能，要从根本解决LiNiO2的存在问题，关键是通过掺杂改性稳定其晶体结构．     

硬脂酸改性硅灰石机理的红外光谱研究

通过对硅灰石改性前后红外光谱的测试，分析了硅灰石在高速搅拌条件下的改性机理。研究表明在这种情况下硬脂酸对硅灰石的改性主要是一种化学键合作用，红外光谱可以对硬脂酸的用量进行定量分折。     

超细高长径比硅灰石制备技术研究

对制备超细高长径比硅灰石的研究从破碎阶段开始就注重对其针状晶体的保护 ,采用长腔颚式破碎 ,使破碎作用于硅灰石矿物上的力分别以挤压力和摩擦力为主 ,避免过粉碎 ,可有效地保护粗颗粒硅灰石的针状晶体结构。采用多种超细粉碎设备对硅灰石进行超细粉碎 ,结果表明 ,QLM Ⅳ型流化床式气流粉碎系统在磨腔工质压力为 0 . 7～ 0 . 8MPa,轴承防护气体压力为 0 . 2 0MPa、清洗气体工作压力为0 .15MPa、分级轮转速 2 0 0 0r/min的工艺条件下 ,粉碎产品平均粒度为 5 . 60 μm ,长径 /短径高达 16 .17。     

炭黑改性PZN-PZT/PVDF压电复合材料的制备与性能

将导电炭黑掺杂的聚偏氟乙烯(PVDF)与铌锌锆钛酸铅(PZN-PZT)陶瓷粉体复合,制备0-3型压电复合材料,研究了炭黑添加量对压电复合材料电性能的影响.结果表明,适量的导电炭黑可以明显提高复合材料的极化和压电性能.当炭黑含量为0.3%时,压电复合材料的综合性能最佳,剩余极化强度Pr达到5.37μC·cm-2,矫顽场Ec为57kV·cm-1,介电常数εr为177.2,压电常数d33达到39.7pC/N.     

Preparation and Properties of Friction Materials by Using Two Kinds of Fibrous Industrial Minerals

1　IntroductionAsknown ,thefrictionmaterialisatypeofcompos iteswhosefrictionalcoefficientisconcerned .Thecompos iteconsistsofthreeparts :matrixmaterial,reinforcingmaterial ,andadjustingagent.Asbestosistraditionallyusedasareinforcingmaterial ,butasbestos basedfric tionalmaterialhaslargeheat fade ,whichcannotmeetthedemandforbrakingathightemperature .Inaddition ,as bestosmayinducecancer[1] .Asboththeenvironment pro tectionandthebrakingefficiencyareconsidered ,thetra ditionalasbestosfrictionalmat…     

用极差法与回归法探讨蒙脱石有机化层间距的影响因素

本文选择了四个主要影响蒙脱石有机化层间距的因素(插层剂含量、温度、搅拌时间、pH值)设计了18个试验,用极差法和回归法分析了实验结果,结果表明制备最大层间距的最佳工艺条件为插层剂含量70%;温度为95℃;搅拌时间为2h;pH值为5,而且在插层剂含量＜70%时,制备的蒙脱石层间距与插层剂含量存在线性关系.即蒙脱石层间距=1.771+2.828×插层剂含量,其他因素影响程度很小.这一结论对不经过X-ray测试而直接估算制备的蒙脱石层间距起到了指导性的作用.