关节臂式坐标测量机的虚拟样机模型及仿真

基于虚拟样机技术对六自由度关节臂式坐标测量机的测量空间进行研究和仿真,建立了六自由度关节臂式坐标测量机的测量运动学数学模型和虚拟样机模型。在建立起虚拟样机模型之后用图解法对其进行了检验,并将得到的虚拟样机模型与运动学数学模型进行比较验证,结果表明虚拟样机模型能够准确地反映测头位姿,方便有效地进行整个测量空间的运动仿真。正确的虚拟样机模型与测量运动学模型是研究测量机的误差空间分布的必要环节,为下一步工作奠定了研究基础。     

滚动压印装置研制与压印填充模拟

紫外滚动压印因其可以在室温下、普通大气环境中高效大面积地进行微结构制作而备受瞩目.利用自行研制的紫外滚动压印装置,实现了微结构的快速复制.实验中发现当压印速度达到某一特定值时,会不可避免地产生气泡缺陷.采用流体软件Fluent对滚动压印充填过程进行分析,来研究气泡缺陷的产生机理.结果表明,压印速度过高导致空气被堵在图形空腔内,最终形成气泡缺陷.同时,低黏度的胶液和小的接触角更利于模型填充.此研究对于获得优化的滚动压印工艺具有一定的意义.     

接近式光刻图形失真的部分相干光理论分析

光刻过程中由于光的衍射效应产生的非线性畸变对光刻面形质量具有严重影响，是造成光刻微结构图形失真的主要原因之一，为此，研究了接近式紫外光刻中部分相干光的传播过程，建立了相应的光刻理论模型，对光刻成像中的误差产生机理进行分析．该模型综合考虑光源和照明系统对掩模微结构附近光场相干性的影响，将光刻模拟分为3部分．首先根据VanCittert-Zernike定理确定了光源经扩束准直系统传播到蝇眼透镜入射面时光场上任2点的互强度．然后应用部分相干光的传播理论，由Hopkins公式得到部分相干光经蝇眼透镜传播到掩模平面后其上任一点对的复相干度的分布规律．最后根据互强度传播定律，分析从掩模面到光刻胶表面的衍射效应，得到光刻胶表面的光强分布及变化规律，并且通过误差的仿真分析模拟得到光刻胶图形轮廓．结果表明，理论模拟结果与实验较为吻合．该方法能准确地得到衍射光场的分布，进行光刻误差分析，从而能较好地发现曝光图形缺陷．     

大面积复杂掩模图形的快速光刻仿真研究

大面积复杂掩模图形的光刻仿真,要同时满足高精度和高效率两个要求。为克服现有方法积分区域大,计算效率低等问题,提出了一种基于最有效影响区域的简化计算方法。该方法首先利用波前分割的方法确定影响光刻胶目标场点光强的最有效影响区域,以此局部区域替代原来的整体积分区域作光强的计算,将积分区域由整个掩模图形缩小为图形的一小部分。试验结果表明,该算法与现有方法比较,精度上非常接近,但速度显著加快,且稳定可靠。该方法能够快速准确地对大面积复杂掩模图形进行光刻仿真,具有重要的应用价值。     

基于Web的CAD系统中NURBS曲线的实现方法与探讨

提出一个解决AutoCAD中Spline闭合曲线的起点相关性和形状易发生畸变等问题的新方法,实现曲线的形状唯 一性,使其更适合工程实际的需要。利用Java编程在自行研发的基于Web的CAD系统中,实现了NURBS曲线的生成、 修改和控制功能。     

基于Web的虚拟设计中VRML实时模型的可交互处理方法

提出一种基于Web的虚拟设计系统的基本结构,对其中在Web页面上展示产品的VRML模型提出了一种可实时交互的处理方法,包括对VRML模型的可交互操作进行预定义、预定义的节点信息和数据库之间的逻辑关系以及根据预定义信息对VRML模型文件进行自动处理的相关算法,最后在系统原型中具体实现了该方法。     

基于网页的协同设计环境的研究

介绍通过对基于网页的协同设计环境的研究开发 ,从开发体系、系统结构、系统功能及图形文件的读取等方面提出的相关解决方案 ,以及初步完成的对整个系统的开发与集成。     

采用波前分割法的接近式光刻掩模版局部优化

针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题,采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分,并利用光场相干叠加相互抵消的性质,最终得到掩模图形上对场点光场影响最大的波前区域,并得到实验验证.应用模拟退火算法对掩模特征处进行局部优化,在保证优化效果的基础上,使优化过程大大简化.     

基于MC算法的光刻仿真微结构的三维重建

在深度光刻中为了仿真微结构的形状,需要利用三维光场分布的数据对其进行三维重建。而MC(Marching Cubes)算法是三维重建中构造等值面的代表性的方法之一。以MC算法为基础,首先介绍了如何利用MC算法来绘制三维光场数据的等值面,然后分析将等值面和边界所围成的空洞补全的方法,最后研究了如何利用有限元分析软件的参数化设计语言将生成的面模型转换成实体模型。该方法重建的几何模型不但可以用于微结构形状误差分析,而且还可方便的用于建立有限元模型,直接应用于有限元分析。     

残余层对紫外光滚动压印脱模质量影响的有限元分析

通过利用ABAQUS软件,对不同厚度的残余层对紫外光滚动压印脱模过程的影响进行了研究。通过理论计算,残余层可以减少脱模过程中结构的应力集中和最大应力。随着残余层厚度的增加,残余层对于脱模的改善作用有所不同,仿真结果得出了一个最佳的残余层厚度来提高滚动压印的脱模过程。引入残余层来提高滚动压印脱模质量提供了一个紫外光滚动压印技术的新思路。