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溅射法制备硫化锌薄膜的XPS剖析 总被引:2,自引:0,他引:2
用X射线光电子能谱(XPS)技术,测量了射频磁控溅射法(RFMS)制备的硫化锌薄膜(ZnS:Er^3+)的表面及内部构态,认为氧吸附形成的表面构态是产生薄膜界面态和界面陷阱能级的主要原因,对研究器件的激发过程有参考意义 相似文献
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硅基硫化锌薄膜的溅射法生长技术 总被引:3,自引:1,他引:2
利用射频磁控溅法在Si衬底上制备ZnS薄膜,用X射线衍射技术对薄膜的结构相变进行研究,揭示了Si衬底上ZnS薄膜的微观结构和相变特征与溅射功率的关系,为寻找高新发光材料提供依据。 相似文献
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硫化锌薄膜的微结构和表面特性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
对射频磁控溅射法制备的掺铒硫化锌薄膜,运用X射线衍射和X射线光电子能谱技术,获得微晶薄膜的微结构和表面构态信息,揭示了电致发光薄膜的表面构态对激发态的影响。 相似文献
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