基于威布尔分布的某半导体器件贮存寿命分布规律初探

对有机电致发光二极管（Organic Light-Emitting Diode,OLED）微型显示器件进行90℃、80℃、70℃的高温贮存试验,获得产品的失效数据。基于威布尔分布模型,采用最小二乘法进行参数估计,对失效数据分析,获得OLED微型显示器件失效分布函数。应用经典可靠性理论,计算产品在90℃、80℃、70℃的特征寿命、可靠寿命及平均故障间隔时间（Mean Time Between Failure,MTBF）。采用Arrhenius模型,依据90℃、80℃、70℃的贮存特征寿命,获得常温下产品的贮存特征寿命。分析结果表明,该方法合理、简便、有效,数据结果可以进一步应用到推导产品常温贮存寿命。     

黑曲霉菌对Ge镀增透膜层的腐蚀行为研究

为开发新型保护膜系和光学系统的防霉设计提供数据支撑,了解Ge镀增透膜层在黑曲霉环境下的腐蚀行为,有助于提高红外窗口材料的环境适应性。通过霉菌加速试验,采用荧光显微镜、扫描电镜、X射线光电子能谱等,研究黑曲霉菌对Ge镀增透膜层样品的腐蚀行为及影响规律。黑曲霉菌为产酸型微生物,在稳定期时,它的生物量最高,细胞代谢产物的积累达到高峰,在对数生长阶段,由其引起的生长环境pH值变化显著,增加了环境的酸度;黑曲霉菌初始以Ge镀增透膜层样品表层吸附的碳元素为营养粘附于样品表面,并在样品表面大量繁殖,消耗样品表层的碳含量,随着黑曲霉菌的大量繁殖,样品表面的pH值也随之降低,样品表面的金属元素被氧化,开始逐步溶解,Ge镀增透膜层样品表层的锗元素、锌元素相继被剥离,参与反应后,样品的表层形貌被破坏严重,形成了大量的腐蚀坑。黑曲霉菌对Ge镀增透膜层的腐蚀行为以点蚀方式为主,它的生长代谢作用促进Ge镀增透膜层的腐蚀。     

微光像增强器在热带雨林中的环境适应性分析

针对微光像增强器在高湿、高热环境易产生失效和劣化现象的问题,对2种型号的微光像增强器进行比较分析。以热带雨林环境为试验背景进行棚下暴露试验,以试验前后微光像增强器的亮度增益、分辨力、等效背景照度、信噪比作为参考依据,并结合环境因素监测数据,分析微光像增强器在热带雨林中的环境适应性。通过两年的试验结果表明:A型微光像增强器在热带雨林自然环境中的适应性比B型微光像增强器稍好。该试验结果对微光像增强器的使用、维护、性能评价以及设计改进具有一定的指导意义。     

红外增透膜湿热雨林气候环境适应性分析

随着军用红外光学仪器的发展,对红外光学镀膜元件耐环境性能的要求越来越高。以波段在8~12 μm的Ge、ZnS、ZnSe镀增透膜样品为对象进行红外增透膜湿热雨林气候环境适应性研究。以外观质量、重量、光谱透射比等为评价指标进行环境适应性评价,得出以下结果:经过3年湿热雨林气候环境试验,红外增透膜出现了不同程度损伤,损伤模式主要为变色和脱膜;随着试验时间的延长,变色越来越严重,变色区域越来越大;重量出现先减少后增加的现象,光谱透射比出现少量下降;经过3年的湿热雨林气候环境试验后,红外增透膜均已失效。