排序方式: 共有2条查询结果,搜索用时 62 毫秒
1
1.
2.
本文系统描述了用PCVD(光化学汽相淀积)技术在InSb衬底上沉积SiOxNy介质膜的工艺过程。对SiOxNy膜进行测试分析,并用它作介质膜,钝化膜,作出了性能较好的InSb CID焦平面器件。 相似文献
1