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1.
宽禁带半导体β-Ga2O3因为具有优良的物理化学性能而成为研究热点.本文基于DFT(Density Functional Theory)的第一性原理方法,先采用PBE(Perdew-Burke-Ernzerhof)中的GGA(Generalized Gradient Approximation)和GGA+U(Generalized Gradient Approximation-Hubbard U)的方法计算了本征β-Ga2O3,Lu掺杂浓度为12.5%的β-Ga2O3及Lu-Eu共掺杂浓度为25%的β-Ga2O3结构的晶格常数、能带结构和体系总能量.发现采用GGA+U的方法计算的带隙值更接近实验值,于是采用GGA+U的方法计算了本征β-Ga2O3,Lu掺杂的β-Ga2O3以及Lu-Eu共掺杂的β-Ga2O...  相似文献   
2.
采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算方法研究了本征GaSb以及稀土元素Sc、Tm掺杂后的GaSb的电子结构和光学性质.计算结果表明:Sc、Tm掺杂后GaSb仍为直接带隙的P型半导体. Sc掺杂后GaSb在导带中诱导了浅能级缺陷态,带隙变窄. Tm掺杂后GaSb在导带中诱导了深能级缺陷态,带隙变宽. Sc、Tm掺杂后使能量损失减小并且均增强了GaSb对中红外波段光子的吸收,其中Sc掺杂效果更佳,在4.3μm(0.28 eV)处存在吸收峰,峰值为1.7×10~5 cm-1,且直到波长为6.8μm(0.18 eV)时,光吸收系数仍能达到1×10~5 cm-1.计算结果为拓展GaSb基半导体材料在红外探测器、红外半导体激光器等领域的应用提供理论参考.  相似文献   
3.
基于密度泛函理论下的第一性原理平面波超软赝势方法,研究了单层GaN、g-C3N4、GaN/g-C3N4异质结及3种氮缺陷GaN/g-C3N4-VXN(X=1、2、3)异质结的稳定性、电子结构、功函数及光学性能。计算结果表明,GaN/g-C3N4异质结体系晶格失配率极低(0.8%),属于完全共格。与单层g-C3N4相比,GaN/g-C3N4和GaN/g-C3N4-VXN(X=1、2、3)异质结的导带向低能方向偏移,价带上移,从而导致带隙减小,且态密度均显示出轨道杂化现象。GaN/g-C3N4和GaN/g-C3N4-VXN(X=1、2、3)异质结在界面处均形成了电势差,在其内部形成了从g-C3N4层指向GaN层的内置电场。GaN/g-C3N4-V1N异质结的界面电势差值最大且红移现象最为明显,表明GaN/g-C3N4-V1N异质结相较其他2个N缺陷异质结光学性能最好。氮缺陷的引入在不同程度上提高了GaN/g-C3N4异质结在红外光区域的光吸收能力。  相似文献   
4.
基于密度泛函理论下的第一性原理平面波超软赝势方法,研究了单层GaN、g-C3N4、GaN/g-C3N4异质结及3种氮缺陷GaN/g-C3N4-VXNX=1、2、3)异质结的稳定性、电子结构、功函数及光学性能。计算结果表明,GaN/g-C3N4异质结体系晶格失配率极低(0.8%),属于完全共格。与单层g-C3N4相比,GaN/g-C3N4和GaN/g-C3N4-VXNX=1、2、3)异质结的导带向低能方向偏移,价带上移,从而导致带隙减小,且态密度均显示出轨道杂化现象。GaN/g-C3N4和GaN/g-C3N4-VXNX=1、2、3)异质结在界面处均形成了电势差,在其内部形成了从g-C3N4层指向GaN层的内置电场。GaN/g-C3N4-V1N异质结的界面电势差值最大且红移现象最为明显,表明GaN/g-C3N4-V1N异质结相较其他2个N缺陷异质结光学性能最好。氮缺陷的引入在不同程度上提高了GaN/g-C3N4异质结在红外光区域的光吸收能力。  相似文献   
5.
基于密度泛函理论,采用广义梯度近似(GGA+U)平面波超软赝势方法,计算了本征GaN和稀土元素Lu、Sc掺杂GaN体系的电子结构和光学性质.结果表明:计算得到本征GaN的禁带宽度为3.37 eV,与实验值(3.39 eV)接近. Lu掺杂后GaN体系带隙变窄,而Sc掺杂后诱导了深能级杂质,带隙变宽,但仍为直接带隙半导体.掺杂后体系均发生畸变,晶格常数和体积增大,且在费米能级附近产生杂质带. Lu、Sc掺杂GaN体系的静态介电常数较本征GaN(4.50)均有所增大.Lu、Sc掺杂后体系介电常数虚部整体左移,光吸收边往低能方向移动,发生了红移现象.计算结果对稀土元素Lu、Sc掺杂GaN高压光电材料的开发和研究提供了理论依据.  相似文献   
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