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采用浸渍法制备Pd-AgNbO3光催化剂,并运用XRD、XPS、SEM-EDS和DRS等方法对光催化剂进行表征与分析。以亚甲基蓝染料(MB)为降解污染物,考察Pd掺杂对AgNbO3光催化活性的影响。结果表明,Pd引入后AgNbO3的晶型结构及表面性质并未发生变化。DRS分析表明,Pd掺杂后光催化材料在可见光区的吸光度明显提高。光催化降解实验表明,当Pd的掺杂量为0.8%(质量分数,下同),热处理温度为400℃,煅烧时间为3h时,光催化降解活性最高,MB降解率为92.2%。Pd-AgNbO3光催化降解MB符合一级反应动力学特性。 相似文献
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采用原位显微Raman光谱技术详细考察了气相氧分压、试样温度、激光功率(0.04~5mW)和波长(785,632.8,514.5,325 nm)等因素对La2O3上过氧物种激光诱导生成的影响.实验结果表明由激光诱导所产生的过氧物种的Raman谱带的强度及其增长速率与气相氧分压、激光波长和功率以及试样的温度等因素密切相关;除了785 nm的激光外,上述其它波长的激光均可诱导分子氧与La2O3的晶格氧反应并生成过氧物种.通过对La2O3表面过氧物种激光诱导生成过程的分析,认为激光诱导作用的本质是使基态的三态氧分子(3∑g-)跃迁到单态氧(1∑g+),单态氧再与La2O3表面的晶格氧反应生成过氧物种,激光波长的理论阈值为762.7 nm. 相似文献
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研究了温度为150℃,电流密度为5.0×103A/cm2的条件下电迁移对Ni/Sn/Ni-P(Au)线性接头中界面反应的影响.结果表明电流方向对Ni-P层的消耗起着决定作用.当Ni-P层为阴极时,电迁移加速了Ni-P层的消耗,即随着电迁移时间的延长,Ni-P层的消耗显著增加;电迁移100 h后Ni-P层消耗了5.88 μm,电迁移200 h后Ni-P层消耗了13.46μm.在Sn/Ni-P的界面上形成了一层Ni2SnP化合物而没有观察到Ni3Sn4化合物的存在,多孔状的Ni3P层位于Ni2SnP化合物与Ni-P层之间.当Ni-P层为阳极时,在电迁移过程中并没有发现Ni-P层的明显消耗,在Sn/Ni-P的界面处生成层状的Ni3Sn4化合物,其厚度随着电迁移时间的延长而缓慢增加,电迁移200 h后Ni3Sn4层的厚度达到1.81 μm. 相似文献
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非离子表面活性剂有优良的乳化、润湿性能,在水溶液中不电离,耐酸碱,抗盐性好。前人曾报道在钢铁酸洗中非离子表面活性剂有优良的去脂效果,但其缓蚀性能以及与其它类型缓蚀剂协同作用的研究,目前尚不多见。本文报导非离子表面活性剂TX-100对0.5mol/l H_2SO_4中低碳钢的缓蚀作用,讨论TX—100在低碳钢上的吸附规律、缓蚀与吸附之间的关系以及它与硫脲协同作用的机理。 1 实验部分 1.1 主要仪器及试剂 721型分光光度计,超级恒温槽。 A3钢片,4.00×1.30×0.20cm;H_2 相似文献
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在激光灼蚀(PLD)系统中,采用流动的N2作为环境气体成功制备了尺寸从2纳米到几纳米之间的纳米硅,并在1.60~1.75eV之间观测到了较强的光致发光谱:结合Raman散射和光致发光谱的分析,推断强光致发光来源于纳米硅的量子效应。 相似文献
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