首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   1篇
  免费   0篇
工业技术   1篇
  2022年   1篇
排序方式: 共有1条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1
1.
目的探讨PIV示踪粒子添加方式对管道流场的影响,寻找最合适的添加方式。 方法对比单管、多管、L型管加注示踪粒子的方式,采用数值模拟与试验相结合的方法。 结果通过对比可知,L管加注示踪粒子在各流量下对流场的影响均较小,但粒子在管道内的分布极不均匀,几乎全部集中于管道中部。多管加注示踪粒子对流场的扰动与其他方式相差不大。 结论L管示踪粒子集中在管道中部,不利于PIV全管道截面流态测量,多管加注的示踪粒子分布最为均匀,为最佳加注方式。   相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号