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ASON技术是一种新型自动交换光网络技术,其包含自动路由技术和标准信令协议,和传统光网络相比,具有多方面的应用优势。通过在电信网中应用ASON技术,可以有效提高电信网络的安全性和稳定性,优化电网网络资源配置,具有较高的经济效益。本文简要介绍了ASON技术,分析了ASON技术在电信网中的应用,以供参考。 相似文献
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针对传统单目标的核相关滤波器(KCF)跟踪算法在目标尺度变化的跟踪中存在的问题,提出了一种基于相关滤波器(CF)和尺度金字塔的多尺度核相关滤波器(SKCF)跟踪算法。首先通过传统KCF跟踪算法中分类器的响应计算当前目标是否受到遮挡,在未受到遮挡的情况下,对当前目标建立尺度金字塔;然后通过相关滤波器求取尺度金字塔的最大响应得到当前目标尺度信息;最后使用新目标图像为训练样本更新目标的外观模型和尺度模型。与核化的结构化输出(Struck)算法、KCF算法、跟踪-学习-检测(TLD)算法和多示例学习(MIL)算法进行对比,实验结果表明,所提出的多尺度核相关滤波器(SKCF)跟踪算法在五种算法中精确度和重合度都取到最高值。所提算法能够广泛应用于目标跟踪领域,对目标进行准确的跟踪。 相似文献
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为了开发一种无氟环保的拒水整理方法,采用酸解法制备纳米微晶纤维素(NCC),并将其协同有机硅拒水剂二浴法整理棉织物。优化了NCC制备条件,并通过红外光谱、X射线衍射、热失重等测试手段对其结构及热性能进行分析;探讨了NCC粒径及整理工艺参数对有机硅拒水剂拒水效果的影响。结果表明,NCC最佳的制备范围为:H2SO4质量分数为60%-65%,温度为40-50℃,反应时间为2-3h;NCC协同有机硅拒水整理时,当NCC粒径在260nm时,织物拒水效果明显提高,达到95分以上,经扫描电镜观察,NCC在织物表面形成粗糙结构。NCC协同有机硅拒水整理最佳工艺参数为:NCC烘干时间180s、拒水整理焙烘时间90s、焙烘温度160℃。 相似文献
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为降低露天矿台阶爆破因边坡高程放大效应对边坡造成的损害,减小通过修正的萨道夫斯基公式计算出的质点峰值速度v0与实际质点峰值速度v的误差,提高控制爆破振动强度的能力,基于标准正态分布,为爆破振速峰值建立随机变量v的分布函数。利用MATLAB中的二元线性回归模型求出爆破振动速度预测公式,对露天矿台阶边坡进行爆破振动评价和安全炸药量预测。通过工程实例与修正的萨道夫斯基公式进行对比发现,单段最大安全药量减少了约567kg,与实际更加吻合,且目标设施得到保护的概率提高了40.15个百分点,对比结果表明:利用概率公式对爆破振动进行评价和安全药量预测,其结果明显优于修正的萨道夫斯基公式。 相似文献
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The significant role of ion beam flux during nitriding 304 austenitic stainless steel has been investigated by using a radio frequency inductively-coupled plasma reactor into which a sample with negative bias voltage was inserted. A milliammeter is used to detect tile current of ions which collide with the sample and optical emission spectroscopy is used to discern the reactive species included in the nitrogen plasma. The nitriding efficiency is indicated by X-ray diffraction and the microhardness test. The reported data reveal that the ion beam flux density as well as the deposition pressure, bias voltage and time can strongly affect the nitriding of stainless steel via tile expanded multiphase microstructure inside the nitrided layer. The increase in the density of ion flux results in an ascent in the intensity of the expanded peak and a simultaneous decline in the intensity of the 3' austenite peak. The evolution trend of ion beam flux density is described as a function of tile operating pressure and the bias voltage. The maxinmm ion flux density has been achieved at 10 Pa pressure and 500 V bias voltage. A reasonable nitriding region has been, consequently, suggested after comparing this work with previously reported results. 相似文献
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