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极紫外光刻(EUVL)技术能突破30 nm技术节点、可应用于大规模工业生产,是下一代光刻技术的核心之一。极紫外(EUV)光源是EUVL的源头,寻找可满足EUVL的合适光源是解决问题的关键,世界上许多发达国家都在积极探索EUVL光源的研究。属于4种气体放电方式之一的毛细管放电具有较高的能量转换效率,将毛细管放电装置应用于EUV光源研究存在很多优势。基于国家长期发展战略的需要和紧跟世界科技前沿的策略,我国建立了国内首台毛细管放电EUVL光源演示装置。经放电试验和测谱分析,装置可满足EUVL光源研究的需要。 相似文献
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毛细管放电46.9 nm软X光激光以高温高密度氩等离子体作为激光增益介质,在46.9 nm激光谱线附近会出现大量的背景光谱,这对于进一步研究激光及其应用极为不利.本文实验研究了不同气压下毛细管放电输出激光的情况,发现低气压下适于产生激光的氩气气压为38 Pa,此时激光信号最大.随着气压的增加,激光信号减小.当气压达到6... 相似文献
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