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N含量对CN薄膜折射率的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
采用射频磁控溅射法沉积了CN薄膜,利用XPS,XRD,FTIR等测试手段研究了CN薄膜的成分和结构。结果表明:CN薄膜为非晶结构;CN薄膜中n(N)/n(C)随沉积室中N2浓度的增加而增大,n(N)/n(C)最高可达到0.33;CN薄膜中主要含有C—C,C—C,C—N,C=N,C=N等原子基团;N在CN薄膜中主要起稳定sp^2C的作用。利用椭圆偏振仪测量了CN薄膜的折射率和厚度。对薄膜的折射率与N含量之间关系的研究发现:CN薄膜的折射率随n(N)/n(C)的增加而减小;CN薄膜的折射率由2.2减小到1.8。 相似文献
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