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介绍了在水下进行激光切割时影响切割质量的几种因素.激光切割应用得已经比较普遍,但是用于水下作业的情况还是比较少.水下激光切割时,不同的激光波长和不同的水层深度都会影响到水对激光能量的吸收,从而改变加工效果;水体流动可以加强水的冷却效果和冲刷效果,有助于提高切割质量;由于水对激光的折射作用,会使得焦点位置下移,影响切割质量. 相似文献
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本文采用非稳态移动热源模型解决铸件零件激光淬火硬化层深度及激光淬火带宽度分布不均匀问题,该方法适用于任何功率的激光淬火处理硬化深度及淬火带宽计算,简便实用、速度较快、精度较好。 相似文献
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合成了4种掺Nd3+的配合物分别是Nd(C2F5COO)3Tfpy,Nd(C3F7COO)3Tfpy,Nd(C2F5COO)2(C6F5COO)Tfpy和Nd(C2F5COO)3Phen,来研究不同的配体对配合物发光性能的影响。通过紫外吸收谱、红外光谱和核磁共振H谱表征了配合物的结构。在吸收谱、荧光谱和辐射寿命的基础上,应用Judd-Ofelt理论对4种配合物进行了分析。结构分析表明配体和中心的钕离子均成功配位。JO理论分析得到较小的?2表明钕离子和配体是通过离子键的形式配合的。配合物中的环状结构可以显著地提高钕离子的荧光量子效率。与常用的第二配体Phen相比,Tfpy由于自身较小的对称性和含较少的H原子而成为更好的中性第二配体。本研究合成的4种配合物都有较大的受激辐射面积,可以作为潜在的液体激光材料。 相似文献
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采用直流磁控溅射法,以高纯铝(99.99%)为靶材,高纯氩气(99.999%)为起辉气体,在经机械抛光的单晶Si衬底上制备铝纳米颗粒薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、光学薄膜测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)和四探针测试仪分别测试了铝纳米颗粒薄膜的晶相结构、薄膜厚度、表面形貌及电阻率。XRD衍射图谱表明此薄膜为面心立方的多晶结构,择优取向为Al(111)晶面。随溅射功率由30 W增至300 W,铝纳米颗粒薄膜的沉积速率由3.03 nm/min增加至20.03 nm/min;而随溅射压强由1 Pa增加至3 Pa,沉积速率由2.95 nm/min降低到1.66 nm/min。在溅射功率为150 W,溅射压强为1.0 Pa条件下制备的样品具有良好的晶粒分布。随溅射功率从80 W增大到160 W,样品电阻率由4.0×10-7Ω·m逐渐减小到1.9×10-7Ω·m;而随溅射压强从1 Pa增至3 Pa,样品电阻率由1.9×10-7Ω·m增加到7.1×10-7Ω·m。 相似文献
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分别应用水和自制的自由约束层介质作为激光冲击强化处理的约束层材料,利用脉冲时间为20ns,波长为1.06μm,冲击功率为35~40J,冲击光斑尺寸为5mm的Nd:Glass激光器,对304不锈钢进行了激光冲击处理.首先,利用Taylor Hobson形貌测量仪测量了使用两种不同约束层材料激光冲击处理后冲击强化区的形貌;其次,对激光冲击处理后304不锈钢试样上的自由约束层的破坏行为进行了观察和分析.通过对实验结果的分析与比较,发现使用不同约束层材料对激光冲击强化处理的效果是不相同的.此外,对使用不同约束层材料对激光冲击处理结果影响的机理进行了理论探讨. 相似文献
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采用固相法制备BiLiMg(NbxMx)O系BMN基陶瓷样品。分别研究了Zr4+离子、Sn4+离子和Ti 4+离子替代Nb5+离子对BMN陶瓷性能的影响。结果表明,Zr4+离子、Sn4+离子和Ti 4+离子替代量较小时,相结构为单一焦绿石结构。随着Zr4+离子、Sn4+离子替代量的增加,样品中空隙增多;Ti 4+离子替代量将直接影响样品中晶粒的生长方向,对样品中空隙影响不明显。介电性能方面,不同替换离子介电性能最佳状态出现在不同替换量的情况下(m为比例系数):在Zr4+离子替换量为2m时,介电常数为177.4177,介电损耗为0.00034;Sn4+离子替代量为1m时,介电常数为174.9671,介电损耗为0.00038;Ti 4+离子替代量为4m时,介电常数为188.4959,介电损耗为0.00027。 相似文献