多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究

对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响，并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度．     

六方Co_(2-3)C的形成SCIEI

将50keV碳离子注入纯Co金属膜中,在剂量为2.5×10^(17)/cm^2时,发现了六方结构碳化物。电子衍射结果表明晶格常数a=0.2685nm,c=0.4335nm。当剂量提高到5×10^(17)/cm^2时,六方衍射环仍然存在。而剂量提高到9×10^(17)/cm^2时,衍射环变成具有非晶特征的漫散晕。Auger谱数据表明,形成的六方相成份范围为Co_2-_3C。本文从固体Fermi能来解释Fe,Co和Ni的六方碳化物形成的变化;从能带理论解释热处理方法形成正交Co碳化物的原因。     

评介《近代成象技术与图象处理》

评介《近代成象技术与图象处理》方正知《近代成象技术与图象处理》吴世法编著国防工业出版社出版近代图象科学是信息科学中颇为活跃的分支学科之一，在未来的信息化社会中会有不可限量的长足发展。所谓“近代”是相对常规而言；例如成象的能量源不只是光束和硬Ｘ射线，而...     

Mo／SiO2软X射线多层膜反射镜的界面分析

用Ｘ射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Ｍｏ／ＳｉＯ２多层膜低角Ｘ射线衍射谱进行拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度。同时，用Ａｕｇｅｒ电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面，随样品厚度的增加，界面粗糙度增加。