中科院上海冶金所研制的二氯二氢硅通过市级鉴定

<正> 二氯二氢硅(Sicl_2H_2)是一种新型的外延沉积源,比Sicl_4外延沉积温度低,外延层质量高,是目前国内半导体器件科研和生产单位急需的一种气态源,它还可以用于制备高均匀度的氧化层,廉价太阳能电池和用于生产Si_3N_4薄膜的气态源,具     

熔盐溶液的统计理论——第三部分 三元同离子系的相平衡

根据我们以前提出的熔盐溶液的统计模型,和零级近似规则溶液理论,导出了AB-AC-AD型和A_2B-AC-AD型三元熔盐相图的液相面方程式。计算结果用若干三元相图进行了验证,结果符合较好。对其他类型的三元同离子系相图,则讨论了溶解能参数和相图几何特征的关系。     

GaAlAs/GaAs双异质结发光管中的深能级

本文用DLTS谱仪和单脉冲瞬态电容技术测量了光通信用GaAlAs/GaAs双异质结发光管中的深能级,对有源区掺Si和掺Ge的相同结构器件,均测得有多子陷阱存在,其能级位置分别为E_C—E_D≈0.29eV和E_T—E_V≈0.42eV。比较了外延系统中氧含量变化对有源区掺Si器件深能级的影响,以及有源区EL图象中的DSD与深能级关系,结果表明外延系统中氧含量对深能级有明显影响,而EL图象中DSD的出现率与深能级无明显关系。     

A STUDY OF Zn DIFFUSION IN InP AT LOW TEMPERATURE

The diffusion of Zn in InP at low temperature is investigated.The experiment is accomplishedin an evacuated and sealed quartz ampoule using Zn_3P_2 as the source of Zn.The electrical characteristics of the diffusion samples obtained by the isotemperature processand the two-temperature process have been compared.It is found that with the two-temperatureprocess one can obtain a smooth,damageless and high-concentration surface layer.This processhas been applied to fabricate InGaAsP/InP light emitting diodes,and the diodes obtained have anoutput power of≥1mW with a series resistance of 2—5Ω.The behaviors of Zn diffusion in InPare discussed.     

砷化镓双异质结高辐射度发光管的研制

用液相外延技术生长GaAs-Ga_(1-X)Al_XAs双异质结材料,并制成小面积高辐射度发光二极管。辐射度高达100w/sr·cm~2以上,尾纤(芯径60μm,N.A.=0.17)输出功率最高达200μW,外推工作寿命10~5小时。已用于1.8公里,8.448Mb/S,PCM-120路光纤电话通信系统。对器件的工作特性进行了分析,讨论了影响因素及改进途径。     

InGaAsP/InP双异质结发光管中的深能级

本文用DLTS谱仪研究了SiO2限制的InGaAsP/InP双异质结发光管中的深能级。结果表明:只有在p-n结位于p-InP/n-InGaAsP界面处的个别器件中,有△E=0.24eV的多子陷阱。     

Zn在InP中低温扩散的研究

本文用Zn3P2源在闭管条件下研究了Zn在InP中的低温(520700℃)扩散。比较了用等温扩散和双温区扩散技术扩散后,样品的电学参数。结果表明:双温区扩散法可得到表面光亮,无损伤的高浓度表面层。该法已用于InGaAsP/InP双异质结发光管的制备工艺中,并制得了光功率1mW,串联电阻23的发光管。还讨论了Zn在InP中扩散时的行为,解释了低温(550℃)扩散过程中,等温扩散时出现的异常现象。