HNB-4型中温变换催化剂使用小结

我厂是1968年建成的年产3000吨合成氨厂,后经多次改造,现已形成年产4万吨合成氨和十六万吨碳酸氢铵的生产能力。全厂分两套生产系统,一套为φ600系列年产1.5万吨合成氨,一套为φ800系列年产2.5万吨合成氨。我国一氧化碳中温变换催化剂的型号很多。HNB-4型催化剂是河北轻化工学院研制、湖北沙市催化剂厂生产的一种新型中变催化     

用XPS研究快速热退火形成TiSi_2的热氧化

用XPS结合AES、SEM、XRD分析研究了快速热退火形成的TiSi_2经100—1000℃、20—60 的热氧化行为.TiSi_2表面由SiO_2+ TiO_2组成的混合层随着氧化温度的升高或是氧化时间的延长向SiO_2层过渡.提出一个“氧化时间两个阶段”的模型解释了实验结果.     

微差起爆技术在深基坑水平支撑梁拆除中的应用

南京大屠杀遇难同胞纪念馆工程深基坑内两道水平支撑采用微差起爆技术进行拆除,本文着重介绍了爆破拆除的前期准备、施工过程,以及在安全和周边防护方面所做的工作。     

共溅射W-Si薄膜的快速热退火及其热氧化研究

淀积在SiO_2上的共溅射W-Si 薄膜,在高纯N_2中经200—1100℃的10秒钟快速热退火,用转靶X射线衍射、激光喇曼光谱、俄歇电子能谱、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、四探针测量等不同手段研究了钨硅化物的形成.565℃退火出现了W_5Si_3相,退火温度高于755℃,稳定相WSi_2形成,但W_5Si_3相并不消失,一直与WSi_2共存.经考查,W_5Si_3的存在并不是由于在薄膜淀积或是退火形成硅化物的过程中引起缺硅而造成的,它对薄层电阻仅起部分影响作用,材料的电学性质最终仍由具有最低电阻率的稳态WSi_2相决定。WSi_2与W_5Si_3相高温热氧化时都不稳定,会分解并被氧化成SiO_2和WO_3。