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1.
TiO2纳米管阵列作为一种新型的纳米TiO2材料,由于具有独特的阵列结构和优异的性能,引起了人们的极大关注。详细综述了采用阳极氧化法在钛基表面制备纳米管阵列的工艺条件、形成机理,及其生物医用领域的应用研究,分析了目前存在的问题,并提出了今后研究的对策。 相似文献
2.
研究了镁合金表面无氰浸镀锌-镍合金后直接化学镀Ni-P合金新工艺.分析了化学镀Ni-P合金镀液主盐质量浓度、还原剂质量浓度、镀液pH及温度对镀速和镀层耐蚀性的影响.结果表明:本工艺可以在镁合金表面获得均匀致密的浸镀层,最终得到的化学镀镍层硬度高,具有良好结合力和耐腐蚀性能. 相似文献
3.
对无氰镀银工艺进行了优选,找到一种无氰光亮镀银添加剂的配方,并对其工艺参数进行优选,得出最佳脉冲参数为:脉宽1ms,占空比为10%,电流密度为0.6A/dm^2。在最佳工艺参数下得到的银镀层镜面光亮,与直流镀银相比,抗变色性和耐蚀性均显著提高,并通过扫描电镜观察了镀层的表面形貌。 相似文献
4.
介绍了吉林省气候资源与农业生产概况,分析了近年来旱灾对粮食产量的影响,并提出了抗旱减灾对策. 相似文献
5.
研究了镁合金经酸洗直接进行化学镀Ni-P合金工艺。用金相显微镜及扫描电子显微镜观察了镁合金表面经不同时间酸洗后的表面形貌及对镀层质量的影响。分析了镀液pH、温度对镀速的影响,并测试了镀层的表面形貌和耐蚀性。当酸洗时间为25 s时,所得到的镀层均匀致密,结合力好,耐蚀性能大大提高。 相似文献
6.
利用电沉积方法制备了纳米SiO2/Ni复合镀层。研究了阴极电流密度、微粒浓度、pH值、搅拌方式和表面活性剂种类以及浓度等对镀层沉积速率的影响,为正确制定电镀工艺提供了依据。扫描电镜观察表明,纳米微粒的加入增加了镀层表面的不工整性。 相似文献
7.
通过正交试验,确定了脉冲Ni—P—SiO2纳米复合电镀的最佳工艺。讨论了工艺条件对镀层沉积速率的影响。扫描电镜照片表明,采用脉冲电镀比采用直流电镀获得的Ni—P—SiO2纳米复合镀层的微观形貌更好。 相似文献
8.
研发一种新型的加速剂A和稳定剂S联合使用的无铅无镉的快速化学镀镍新工艺,镀速可达到30~38 μm/h,所得镀层光亮、硬度高、孔隙率低,具有良好的结合力和耐腐蚀性.该工艺镀液稳定性和镀层性能在一定程度上已超过了含铅和镉的工艺. 相似文献
9.
通过对硫代硫酸盐、丁二酰亚胺、碘化物、乙内酰脲、亚硫酸盐以及其它无氰镀银体系的分析,总结了当前无氰镀银工艺的技术特点及存在的问题,并阐述了无氰镀银技术的发展历程和研究现状。同时,基于国家目前的经济发展战略,对无氰镀银技术的前景予以了展望。 相似文献
10.
采用脉冲电流,制备(Ni-P)-纳米SiO2复合镀层。通过正交试验设计的方法,重点考察了脉冲平均电流密度、脉宽、占空比、搅拌方式及纳米SiO2的添加量对镀层沉积速率、镀层硬度以及镀层中SiO2质量分数的影响,从而遴选出最佳的电镀工艺。同时,对脉冲电镀与直流电镀进行了比较。 相似文献
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