硼酸盐为基质光致发光材料的研究

本文总结近年采用高温固相法合成的一系列以硼酸盐为基质的荧光材料，讨论其发光性能、晶貌、发光机理，并介绍了研究的简况。     

旋转粘度计检测机理的进一步分析

用旋转粘度计测定液体粘滞系数是目前最为普遍采用的方法。本文对目前广泛使用的旋转粘度计的检测机理做了进一步的分析,并分析了液体层流速度对测量结果精度的影响,指出了用旋转式粘度计测量液体粘滞系数时适用的条件和正确的使用方法。     

磁控溅射非晶CNx薄膜的热稳定性研究

为了研究非晶CNx薄膜的热稳定性,采用射频磁控溅射方法沉积了非晶CNx薄膜样品,并在真空中退火至900℃,利用FTIR,Raman和XPS谱探讨了高温退火对CNx薄膜化学成分及键合结构的影响.研究表明:CNx薄膜样品中N原子分别与sp、sp2和sp3杂化状态的C原子相结合,退火处理极大地影响了CN键合结构的稳定性;当退火温度低于600℃时,膜内N含量的损失较少,CNx薄膜的热稳定性较好,退火温度超过600℃时,将导致CNx膜中大多数C、N间的键合分离,造成N大量损失,膜的热稳定性下降;退火可促使膜内sp3型键向sp2型键转变,在膜中形成大量的sp2型C键,导致CNx膜的石墨化.     

以MB6O10为基质发光材料的研究

总结了近年来有关采取高温固相方法合成的以MB6O10为基质(M=Mg、Ca、Sr、Ba、Cd、Zn)、由Pb2+、Sn2+、Mn2+、Bi3+、Ce3+、Tb3+、Eu2+、Sm2+、Dy3+等离子掺杂的发光材料,并讨论了在空气条件下合成MB6O10系列发光材料的规律及基质与激活剂的关系.     

旋转粘度计检测机理分析与改进建议

用旋转粘度计测定液体粘滞系数是目前最为普遍采用的方法 .笔者对目前广泛使用的旋转粘度计的检测机理做了进一步的分析 ,并分析了液体层流速度对测量结果精度的影响 ,指出了用旋转式粘度计测量液体粘滞系数时的适用条件和正确的使用方法     

氮气分压对氮化硼薄膜场发射特性的影响

利用射频磁控溅射方法 ,真空室中充入高纯N2 (99.99% )和高纯Ar(99.99% )的混合气体 ,在n型 (10 0 )Si基底上沉积了氮化硼 (BN)薄膜。红外光谱分析表明 ,BN薄膜结构为六角BN(h -BN)相 (1380cm-1和 780cm-1)。在超高真空 (<10 -7Pa)系统中测量了BN薄膜的场发射特性 ,发现沉积时氮气分压的变化对BN薄膜的场发射特性有很大影响。随着氮气分压的增加 ,阈值电场逐渐升高 ,这是由于表面粗糙度的变化造成的。充入 10 %N2 情况下沉积的BN薄膜样品的场发射特性较好 ,开启电场为 9V/μm ,当电场升高到 2 4V/μm ,场发射电流为 32 0 μA/cm2 。所有样品的场发射FN曲线均近似为直线 ,表明电子是通过隧道效应穿透BN薄膜表面势垒发射到真空的     

（ZnLa）BO3：Mn^2＋,Eu^3＋和（CdLa）BO3：Mn^2＋,Ce^3＋发光材？…

采用高温固相反应合成了（ＺｎＬａ）ＢＯ３：Ｍｎ＾２＋、Ｅｕ＾３＋和（ＣｄＬａ）ＢＯ３：Ｍｎ＾２＋,Ｃｅ＾３＋的光致发光材料,研究了激活剂和敏化剂的浓度,进行了Ｘ射线粉末实验,并且求得了发光粉样的颗粒大小。     

氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响

用RF磁控溅射的方法在Si(100)基底上沉积了纳米氮化硼薄膜,然后分别用氢、氧等离子体对薄膜表面进行了处理,用红外光谱、原子力显微镜、光电子能谱以及场发射试验对薄膜进行了研究,结果表明氢等离子体使BN薄膜表面NEA增加,阈值电场降低,发射电流明显增大.氧等离子体处理对BN薄膜的场发射特性影响不大,只是发射电流略有降低,这只能是由于氧化层存在的原因.