CMOS缓冲器的时延估算模型

随着集成电路生产工艺的进展，互连线在集成电路设计中的影响越来越大。为了减小互连线的影响，通常在芯片互连中插入缓冲器，但这样做会增加时延。因此，为了精确地对系统进行时延估计，必须对缓冲器的时延进行估算。基于Sakurai的器件模型，提出了一种新的缓冲器时延估算模型。     

哈里斯：用行动表明决心

2008年8月，中国，北京，热闹非凡。原因？不用想，奥运会嘛!因为奥运会的“魔力”，中外运动员、游客、政治家以及商界领袖等齐聚北京．以各自不同的方式为北京奥运加油，造就一大盛会。     

胶片输出技巧浅谈

在印刷行业中,就传统的印刷方式来说,完成一件印刷品大致需要经过原稿分析、图文处理、晒版、印刷、印后加工等几个步骤.     

双相位共轭镜的工作条件参数分析

本文讨论了纯扩散机制的光折变晶体用作单作用区的双相位共轭镜（ＤＰＣＭ）时的阈值耦合强度和允许的输入光强比范围，并与双作用区的情况进行比较后，给出了在输入光强比远离１的条件下，双相位共轭镜的正常工作的条件参数。     

居住建筑的生态技术

住宅建设随着城市化进程的加快必然造成消耗资源、影响环境的局面,运用生态建筑技术建造住宅是改善这一局面的有效措施.从生态技术角度对住宅建筑的环境、节能、材料使用、绿化、使用太阳能和减少污染等方面进行了有益的探索.     

辅加散热器遏制变扭器油温过高

变扭器油温过高是矿用汽车使用中常见而又极为致命的故障之一。正常工作时油温一般应保持在70～90℃范围内。实践证实长时间运行在95℃以上．将直接导致变扭器工作失效，其一，表现为机械直接损坏，如橡胶密封件和档位离合器片的烧蚀、变形、脆硬剥落等造成变扭器脱档、打滑或卡档；其二，表现为油质变化引发的间接损坏，如粘度的     

偏压类型对磁过滤等离子体制备优质类金刚石膜的影响

采用自行研制的磁过滤等离子体装置在单晶Si基底上制备了优质类金刚石(DLC)薄膜.运用红外光谱(IR)、扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪对样品进行了表征和分析,着重研究了衬底偏压类型对制备薄膜的影响.结果表明:在无偏压或周期性负偏压下制备的DLC薄膜的sp3含量比连续负偏压下制备的薄膜的sp3含量要高;同时在周期性偏压下制备的薄膜表面较光滑,其表面粗糙度仅为0.1 nm,sp3含量达到66.8%,相应的纳米硬度也较高(达到80GPa).同时对相应的成膜机理进行了讨论.     

C+ + Builder中多媒体技术的实现

介绍C++Builder中有关媒体控件的使用方法,对多媒体系统制作中的难点进行了探讨.     

用电镀方法在贮氢合金粉末表面包覆铜的探索

设计了一种专用电镀装置：阳极为石墨或不锈钢等制成的不溶性阳极；阴极为贮氢合金粉末和承接部分组成的复合阴极；还有保证阴阳极相对运动的机械传动部分——供液和供料部分。采用特殊的电镀方法对贮氢合金粉末进行包覆Ｃｕ处理：随着阴阳极的相对运动，合金粉末和电镀液一起进入阴阳极之间，电镀液在粉末的间隙中流动，在电场作用下Ｃｕ２＋在粉末的表面放电而沉积，获得均匀镀层。主要工艺参数为：电压６Ｖ～１２Ｖ，电流密度２０Ａ／ｄｍ２～４０Ａ／ｄｍ２，阴阳极相对运动速度２ｍ／ｍｉｎ～４ｍ／ｍｉｎ。此方法易于控制铜的包覆总量，制成的镀铜贮氢合金电极具有较好的充放电循环稳定性和较高的电化学容量。     

鞍钢提高高炉利用系数生产管理实践

针对鞍钢股份有限公司炼铁总厂高炉群平均利用系数低的问题,从原料条件、操作炉型和操作管理三个方面进行了原因分析,通过采取原燃料指标量化管理、高炉炉型诊断管理、操作参数科学管理等措施,克服了原燃料结构变化等不利因素,提高了高炉群平均利用系数,实现了高炉长周期稳定顺行。