硅基MEMS技术

结合MEMS技术的发展历史,概括了当今硅基MEMS加工技术的发展方向。指出表面牺牲层技术和体硅加工技术是硅基MEMS加工技术的两条发展主线;表面牺牲层技术向多层、集成化方向发展;体硅工艺主要表现为键合与深刻蚀技术的组合,追求大质量块和低应力以及三维加工。SOI技术是新一代的体硅工艺方向;标准化加工是MEMS研究的重要手段。     

合成孔径雷达噪声干扰技术研究

对合成孔径雷达实施噪声干扰，可以在SAR图像上产生斑点，破坏雷达对目标的检测。首先给出了SAR雷达干扰方程，然后从图像特征检测的角度出发，推导了对其进行有效压制所需的干信比，最后给出了干扰功率的计算实例。     

MEMS器件的计算机辅助设计与模拟

概要论述了微电子机械系统的计算机辅助设计和模拟过程,分析了MEMSCAD系统所应具有的主要内容和系统模拟中的关键问题,讨论了目前采用的各种模拟系统的模拟形式和应用范围。并结合静电微马达与微米／纳米镊子实例,分析了模块化的CAD软件结构形式以及所用MEMS材料的数据库建立和应用连接,所提出并采用的开发方式适用于微传感器及微执行器等微系统器件的设计与模拟。     

政治经济学教材中价值理论的逻辑错误及纠正

在我国的政治经济学教材中,价值理论中存在的一些常识性逻辑矛盾,如交换价值与使用价值无关而又受供求影响等,常使学生迷惑且困扰教师,严重影响教学效果。找出这些矛盾及其产生的原因并加以纠正,有助于改进我国政治经济学的教材建设和提高教学质量。     

脉冲激光喷涂一步合成黑色二氧化钛复合涂层

为实现黑色纳米TiO₂有效负载, 提高实际应用能力, 本研究提出了脉冲激光溅射喷涂的方法。在石英玻璃基底上一步制备了非晶分子筛和金红石型TiO₂纳米晶的黑色复合涂层, 表征了复合涂层表面形貌, 测定了复合涂层粉末的光谱吸收性能、物相结构、化学价态以及光催化性能。研究结果表明: 涂层为2~5 μm球体堆积成的多孔结构, 在整个可见光区具有较强的吸收能力。脉冲激光溅射喷涂过程中, 分子筛高温熔融急冷转变为非晶态结构, TiO₂则由锐钛矿型转变为金红石型; 其中Ti⁴⁺离子部分被还原为Ti³⁺离子, 缩小了禁带宽度。脉冲激光溅射喷涂技术实现了黑色纳米TiO₂快速负载, 且在全光谱和可见光条件下仍表现出良好的光催化能力。     

堇青石表面13X-SiC吸附涂层微波法快速制备及评价

目的 利用微波烧结技术实现在堇青石表面快速制备整体分子吸附层.方法 在13X分子筛粉体中添加具有较强微波吸收能力的碳化硅(SiC)粉末介质,通过浸渍粘结,在堇青石蜂窝陶瓷表面形成13X-SiC复合涂层,利用微波烧结快速制备整体式分子吸附层.根据微波加热机理设计微波烧结时间,通过宏观观察、称量法和热循环试验判定堵孔率、负载率、涂层与基底的结合能力.采用SEM和XRD分析复合涂层的微观形貌与组织结构,采用氮吸附法表征复合涂层的气体吸附能力.结果 微波烧结2.1 min可在堇青石蜂窝陶瓷表面获得灰黑色吸附涂层,蜂窝堵孔率低于2.14％,复合涂层负载率约为18.69％,热循环脱落率约为0.47％.微波烧结未影响13X分子筛分子结构,仍存在5 nm左右的介孔.烧结后,SiC与13X分子筛堆积粘结在一起,形成了具有堆积孔隙的复合涂层,大孔和中孔占比增加.复合涂层中SiC的引入减少了13X分子筛占比,整体比表面积由517 m2/g降低至131 m2/g,仍具有一定吸附能力.可通过合理设计13X分子筛与SiC的比例,调节复合涂层的吸附能力.结论 利用微波法烧结制备出与堇青石基底结合力强、负载率高的13X分子筛与SiC灰黑色复合涂层,缩短了堇青石整体吸附器的生产时间,降低了物理吸附载体制造成本,将有助于密闭环境中气体污染问题解决,并为航天器在轨分子污染物控制提供了新途径.     

对客户抱怨的分析和对策探讨

如何对客户抱怨予以预防和补救，从整体上提高通信企业的服务水平，不断提升竞争能力，是一项重要课题。本文在分析客户抱怨的心理和行为的基础上，探讨减少和补救客户抱怨的方法。     

真正的贵族

打开你的双手,摊开在自己面前,好好端详一会儿。干净,灵巧,修长,纹理细腻,真是一双好手啊。缺了些什么呢?伤疤,老茧。这是我最近在思考的终极问题:我们已经多少年没有做过手工活了?我们所追求的理想美好生活,多是四体不勤的寄生虫式。如今稍微有了些钱,加之中国的贫富悬殊,二三十块钱对我们不当回事儿,