不同贮藏温度结合热处理对黄瓜品质及生理生化指标的影响

利用二次回归正交旋转组合设计测出的不同贮藏温度（2、4和8℃）下各自对应的最佳热处理条件，研究不同贮藏温度（2、4和8℃）结合其对应的最佳热处理条件对贮藏期间黄瓜果实品质及生理生化指标的影响，分别对该贮藏条件下黄瓜果实的冷害、硬度、失重率、多酚氧化酶(PPO)、可溶性蛋白、过氧化氢酶(CAT)、过氧化物酶(POD)、H₂O₂、超氧阴离子自由基O^2-?、ASA和GSH含量进行测定。结果表明，热处理可以抑制冷害，而热处理结合4℃低温贮藏可以有效地抑制黄瓜果实硬度和失重率的下降，延缓过氧化物酶(POD)、多酚氧化酶(PPO)活性的上升，抑制H₂O₂和超氧阴离子自由基O^2-?的上升，对黄瓜的褐变有显著抑制作用，延缓抗坏血酸的下降，维持还原性谷胱甘肽(GSH)的含量，有利于调节活性氧系统的平衡。研究表明，在4℃贮藏条件下，黄瓜的热水处理条件为39.4℃、24.3 min时，可延缓黄瓜果实的衰老，较好地保持了果实的品质。     

多效唑在黄瓜基质育苗中的应用效果研究

为了探讨喷施多效唑(PP333)对黄瓜幼苗质量的影响,本试验以‘津春4号’黄瓜为试材,分别在露土期、子叶平展期、1叶1心期喷施不同浓度的多效唑水溶液,通过对幼苗株高、茎粗、下胚轴长、根系活力、叶绿素(Chl)含量等指标的测定来衡量其对黄瓜育苗质量的影响。结果表明:喷施多效唑能明显防控黄瓜幼苗徒长,能够降低幼苗的株高、下胚轴长度,增大茎粗,提高根冠比,提高壮苗指数。在子叶平展期喷施200 mg/L的多效唑时,幼苗品质显著优于其他处理时期和浓度,为最适宜处理组合。     

日光温室黄瓜冬春茬精量水肥栽培技术

日光温室黄瓜冬春茬精量水肥栽培技术采用日光温室滴灌系统,通过控制黄瓜不同生育期水肥用量、温室内温度与湿度、病虫害,避免大水漫灌对水肥的浪费问题,达到精确灌溉施肥目的。该技术包括产地环境、适宜品种选择、整地、定植、温度和湿度管理、灌溉、施肥、植株整理、病虫害防治、采收等方面内容。利用该技术在保证黄瓜产量的基础上,增加种植户的经济效益,实现日光温室黄瓜的高产高效栽培。     

1.5%除虫菊素水乳剂对温室黄瓜蚜虫防治效果试验

[目的]比较3种1.5%除虫菊素水乳剂对温室黄瓜蚜虫防治效果。[方法]施用3种试剂,并在处理前及处理后1、3、7 d分别调查蚜虫数量。[结果]三保奇花-1.5%除虫菊素水乳剂、清源保-1.5%除虫菊素水乳剂和碧琪-1.5%除虫菊素水乳剂,药后7d对黄瓜蚜虫的防效分别为90.26%、81.82%和70.42%。[结论]三保奇花-1.5%除虫菊素水乳剂作为生物农药表现出优异的防效。     

木霉菌T2562对黄瓜枯萎病防治研究初报

黄瓜枯萎病、豇豆根腐病在生产中危害严重,研究生物农药防治该类病害在生产中具有重要意义。本文为研究木霉菌T2562对黄瓜枯萎病和豇豆根腐病的防治效果进行了平板对峙试验和盆栽防治试验。结果表明:木霉菌T2562对黄瓜枯萎病菌菌丝生长抑制率达到了79.62±0.79%,对豇豆根腐病菌菌丝生长抑制率为59.31±1.27%。盆栽试验中木霉菌T2562对黄瓜枯萎病的防治效果达到了64.52±4.31%,有较好的应用前景。     

基质栽培黄瓜叶片水分状况、光合与荧光参数对不同灌水下限的响应

为探明基质栽培黄瓜适宜的灌水下限,实现农艺节水,以黄瓜品种博特209为试材,采用基质盆栽,共设置4个灌水下限处理,即田间持水量的50%、60%、70%、80%,用A、B、C、D表示,灌水上限统一设定为田间持水量的90%,采用TDR350水分速测仪控制基质的水分含量,研究不同灌水下限对基质栽培黄瓜叶片水分状况、光合日变化及荧光参数的影响。结果表明:随着灌水下限的提高,叶片的相对含水量、自由水含量及自由水/束缚水的比值呈逐渐上升的趋势,水分饱和亏、叶片细胞汁液浓度及束缚水含量则呈下降趋势,处理C、D的相对含水量、自由水含量均显著(P<0.05)高于处理A、B,处理A细胞汁液浓度显著高于处理C、D,处理A、B束缚水含量显著(P<0.05)高于处理C、D。叶绿素a、叶绿素b和叶绿素a+b的含量均随灌水下限的升高呈现为先上升后下降的趋势,而类胡萝卜素含量则表现为先下降后上升的趋势,处理C叶绿素a、叶绿素a+b含量显著(P<0.05)高于处理A、B;处理C、D黄瓜叶片的胞间二氧化碳浓度(C_i)的变化趋势基本呈“V”型,而处理A、B的Ci的变化趋势基本呈“W”型;处理A、B、C、D的蒸腾速率(T_r)日变化均呈先上升后下降的趋势,处理B、C、D的Tr在14:00后呈现逐渐下降的趋势,而处理A在12:00后就呈快速下降的趋势;处理B、C、D的气孔导度(G_s)日变化大致呈“M”型的双峰曲线,处理A则呈单峰曲线;处理A、B、C、D叶片净光合速率(P_n)与G_s日变化趋势基本一致,在整个日变化过程中,处理C、D的P_n始终高于处理A、B。F_v/F_m、Φ_PSⅡ、qP随灌水下限的提高呈逐渐上升的趋势,而NPQ呈逐渐下降的趋势。研究结果表明,灌水下限为田间持水量的70%~80%,基质栽培黄瓜叶片的水分状况良好、光合色素含量高、净光合速率大,有利于黄瓜的光合作用,促进黄瓜的生长发育。