电解液浓度对纯钛微弧氧化陶瓷膜结构的影响

为了得到具有生物活性的陶瓷膜,通过研究微弧氧化的工艺条件,得到了适宜于制备多孔生物活性膜的电解液配方,其中Na2HPO4质量浓度为20g/L、KOH质量浓度为2g/L。结果表明,随电解液浓度的增加,起弧电压降低,陶瓷层厚度增加,最大达到13.6μm,表面粗糙度增大,最大达到3.2μm。采用该电解液在适当的微弧氧化工艺条件下,在纯钛表面制备的陶瓷膜具有分布均匀的多孔结构。     

SF6气体泄漏检测方法的改进

SF6气体以其优异的绝缘性能和灭弧性能被广泛用于电气设备中,SF6电气设备密封性能是检验其可靠性的重要指标,是实现其安全稳定运行的前提条件。文章对目前常用的SF6电气设备密封试验方法进行分析,对包扎方法、包扎材料、检漏仪采样管道、检漏仪准确度检验、大型法兰面检漏进行改进,应用效果良好。     

铝合金微弧氧化工艺研究

为了达到改善铝合金表面硬度低、耐磨耐蚀性差的目的,采用脉冲电源微弧氧化技术在硅酸钠电解液中在铝合金表面原位生长陶瓷膜.讨论氧化时间和电流密度对微弧氧化成膜厚度的影响.用数字式覆层测厚仪测量膜厚,扫描电子显微镜和X射线衍射分析膜层显微结构和相组成.结果表明:氧化时间越长,膜层越厚,但是30min以后不再增厚,电流密度越大,膜层越厚;陶瓷层表面有微孔产生,膜层与基体结合紧密,膜层由致密层、过渡层和疏松层组成,致密层厚且致密;氧化膜由γ-Al2O3、mullite莫来石(3Al2O3·2SiO2)和AlO相组成.     

高性能复合材料铝基体的电磁搅拌半固态制备工艺

研究了低频旋转电磁场作用下,搅拌制度、搅拌时间、搅拌频率及搅拌电流对高性能复合材料AA7090合金基体半固态组织的影响。结果表明：无论是等温搅拌还是降温搅拌,其搅拌工艺参数对平均晶粒尺寸的影响规律完全相同：最佳工艺参数均为搅拌频率为6Hz、搅拌电流550A、搅拌时间为25min。但是,降温搅拌效果普遍优于等温搅拌。     

连铸小方坯远程热送热装过程温降计算模型

建立了多块小方坯温降分块计算模型,采用有限元法计算小方坏在远程热送热装过程中内部温度及表面温度变化,得到热送热装过程的温度变化规律,为提高热送温度及制定加热炉加热制度提供了依据。     

管线钢中针状铁素体的形成及其强韧性的分析

通过对一种商业用管线钢连续冷却相变曲线（CCT）的测定,研究了过冷奥氏体的相变规律。在分析显微组织形成规律的基础上,确定了能够在实验用钢中获得针状铁素体组织的控制热加工工艺（TMCP）制度,即制定两阶段多道次控制轧制和冷却速度为30℃/s控制冷却的工艺制度,并利用力学试验及微观分析手段,进一步分析了针状铁素体组织的微观结构特征和力学性能。结果表明,针状铁素体组织中彼此咬合的细小针状片条束、高密度位错和弥散析出相等微观结构特征对提高材料的强韧性具有重要作用。     

单极离子膜分析报告

1　概况天津化工厂电解分厂单极离子膜车间于1994年11月开工,现正使用第2批离子交换膜(日本旭硝子公司Ｆ-893型)。因第2批膜使用情况不理想,我厂多次与日方交涉,日方几次来人查看,但由于各种一手材料(尤其是旧膜分析数据)全部由日方提供,需我厂自己掌握各数据和材料。我厂技术中心与电解分厂联合,1999年6月22日派人去北京化工大学,带1张旧膜(338#槽下,使用45个月)进行电镜分析,做膜两侧表面元素测定。2　分析结果北京化工大学电镜室设备为扫描电镜(250ＭＫ3型),可分析大部分元素,误差10%以下,但有几处限制:只能分析出Ｎａ以后(包括Ｎａ)的元…     

基于数据仓库技术的电信市场决策支持系统探讨

从电信市场和电信数据资源的现状出发,阐述了建设电信市场决策支持系统的必要性,通过对电信数据的分析,建立了相关的联系和模型,提出了基于数据仓库技术的电信决策支持系统总体架构,详细讨论了相关技术实现。     

氮离子束轰击对电弧离子镀TiN膜层的作用

电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.     

自耦变压器和零序保护的若干问题

介绍了接地故障时三卷自耦变压器零序回路的特点.阐述了变压器高压侧零序功率方向元件的应整定方向.通过几例事故的分析,提出了提高零序功率方向保护动作可靠性的几点措施.建议在大型三卷自耦变压器上配置零差保护.