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多媒体课件已经成为现代教育中不可或缺的重要组成部分,许多教师将其应用在教学实践中,帮助学生更好地完成学业。本文从多媒体课件的类型和制作流程两方面对多媒体课件制作进行阐述。 相似文献
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1 工程实例1 1.1 工程概况 杭州经济技术开发区医院位于杭州城东下沙开发区内,整个建筑群由门诊楼、病房楼及连廊组成,其中病房楼为地下1层,地上11层现浇框架剪力墙结构,屋顶标高49.30m。 相似文献
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目的 探讨茯砖茶滋味品质特征及其与主要内含成分含量之间的关系。方法 本研究以来自陕西、浙江、湖南三省的15个茯砖茶为材料, 采用感官审评法、滋味活度值(taste activity value, TAV)分析法、主要内含成分分析法和聚类分析法研究了茯砖茶滋味品质评价方法。结果 在感官审评结果中15个茯砖茶滋味可分为醇和、平和、粗淡3种类型。15个茯砖茶样品的水浸出物含量在21%~38%之间、茶多酚含量在3.0%~9.5%之间、咖啡碱含量在2.2%~7.7%之间、氨基酸含量在0.9%~1.5%之间、可溶性糖含量在2.5%~5.5%。TAV分析结果显示儿茶素组分、咖啡碱及氨基酸对茯砖茶的苦涩滋味和醇甜滋味有显著贡献(TAV>1), 其他内含成分对茯砖茶滋味品质具有修饰作用(0.1相似文献
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月季果中黄酮的提取及其对自由基清除作用的研究 总被引:5,自引:2,他引:3
以乙醇为溶剂,优化了月季果黄酮的提取工艺,考察了月季果黄酮对自由基的清除作用。结果表明:在固液比为1∶80(W∶V)时,最佳提取工艺条件为:乙醇浓度65%、乙醇pH4.0、颗粒粒度120目、浸提温度60℃,此条件下提取率为9.08%。月季果黄酮对羟自由基(·OH)、超氧阴离子自由基(O-2·)、DPPH自由基具有较强的清除作用,并随浓度的增加而增强,但对羟自由基(·OH)和超氧阴离子自由基(O-2·)的清除作用不如同浓度VC的效果;对DPPH自由基的清除作用在浓度小于0.0040mg/mL时,清除率明显高于VC,高于0.0040mg/mL时,略小于VC。 相似文献
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在建筑施工企业中往往有这样一种观念,施工安全是专职安全管理部门的工作,技术人员只要做好技术和质量管理工作就可以了.其实不然,新中国成立以来所发生的死亡事故统计资料表明,由于生产工艺流程本身的缺陷、职工违反操作规程以及作业环境条件、设备、工具的缺陷造成的伤亡事故,已占所有事故总数的60%以上. 相似文献
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对红花蜂花粉多糖分离纯化组分PBPC-Ⅱ的结构及抗氧化活性进行了研究。综合运用β消去反应、碘显色反应、红外光谱(IR)、气质联谱(GC-MS)对PBPC-Ⅱ的结构进行了初步分析,同时测定PBPC-Ⅱ的抗氧化活性。β消去反应结果提示, PBPC-Ⅱ中具有部分—O—型糖苷键相连;碘反应结果表明, PBPC-Ⅱ中不含有α-1, 4-糖苷键,其糖链上可能具有多个侧支及较长支链; IR分析结果显示, PBPC-Ⅱ出现典型的多糖特征吸收峰; GC-MS分析结果表明, PBPC-Ⅱ由鼠李糖、阿拉伯糖、木糖、岩藻糖、葡萄糖及半乳糖构成,摩尔比为1.40∶1.53∶1∶1.11∶2.79∶9.73,半乳糖含量较多,可能是PBPC-Ⅱ的主链构成组分,而鼠李糖、阿拉伯糖、木糖、岩藻糖及葡萄糖相对含量较少,可能是PBPC-Ⅱ的支链构成组分。抗氧化活性试验表明:PBPC-Ⅱ具有不同程度的抗氧化及清除自由基的能力,说明PBPC-Ⅱ具有良好的抗氧化活性。此次试验对PBPC-Ⅱ结构及抗氧化活性进行了研究,为后续进一步深入研究其他活性提供基础研究数据。 相似文献
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猴头菌发酵刺五加后多糖与紫丁香苷的含量变化研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究猴头菌发酵刺五加后多糖及紫丁香苷的含量变化,为新药源开发提供理论依据。以蒽酮-硫酸法测定猴头菌发酵刺五加前后多糖的含量,并采用高效液相色谱法对发酵前后紫丁香苷的含量进行检测。结果显示,猴头菌发酵刺五加后多糖的质量分数由发酵前的0.3%提高到0.7%,多糖的含量提高了133%;而刺五加原药材中紫丁香苷的含量为0.0096%,发酵后在紫丁香苷标准峰对应处未出峰,而是在其它位置出现了三个新的谱带。猴头菌发酵刺五加后多糖含量显著提高,可以起到协同或增加猴头菌及刺五加药效的作用;发酵物中紫丁香苷成分未检出,是由于发酵后紫丁香苷在微生物酶的作用下降解转化为其它物质,有利于提高生物利用度,为新药源的开发奠定了基础。 相似文献
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钴(Co)作为10 nm及以下技术节点的铜互连极大规模集成电路(GLSI)的新型阻挡层材料,在阻挡层化学机械抛光(CMP)中易与铜(Cu)发生电偶腐蚀。本文采用电化学、CMP、静态腐蚀实验以及扫描电镜(SEM)表征方法,研究了弱碱性抛光液中螯合剂和氧化剂在Co/Cu电偶腐蚀中的协同作用。研究表明:抛光液中的氧化作用,使得Co和Cu表面生成一层由氧化物及氢氧化物组成的钝化膜,抑制了Co和Cu的静态腐蚀;多羟多胺螯合剂浓度增加,抛光液pH升高,Co和Cu表面钝化膜的生成加快;CMP过程中,Co和Cu腐蚀电位均有明显降低,去除速率均加快。抛光液组分为1.5 ml·L-1H2O2、0.1%FA/O螯合剂、30%AEO-9、5%硅溶胶(质量分数)时,Co的腐蚀电位低于Cu的腐蚀电位;研磨状态下,Co/Cu腐蚀电位差降到-6 m V,电偶腐蚀电流很小,极大地减弱Co/Cu电偶腐蚀。同时,Co的去除速率为130 nm·min-1,Cu的去除速率为76.5 nm·min-1,Co与Cu的静态腐蚀均不明显,可以很好地满足阻挡层CMP要求。 相似文献
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