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着色算法(color-coding)是求解NP难问题的重要手段之一.而在应用着色算法时,着色算法所产生的着色方案的规模极大地影响着问题的求解性能,故构造一个尽可能小的着色方案是着色算法所寻求的目标.目前存在的着色算法均基于完全散列函数,并要求元素数目n远大于颜色数目k,且k比较小,这个限制条件使得这些着色算法在一些实际情况下无法应用.该文主要研究在元素与颜色规模相近时(n2k)的有效着色算法,并着重分析在n2k情况下着色算法的性能.该文提出了一种基于划分思想的着色方案构造算法PBCC,证明了由PBCC产生的着色方案确实可以覆盖到所有的子集,并具体给出了可应用于(l,d)-(20,16)Motif查找问题的403种着色的构造方法.文章进一步分析了PBCC产生的着色方案规模,并证明了在n2k且n-k2的情况下,任何着色算法所产生的着色方案的规模|S(n,k)|都不小于[n/2 n-k] [[n n-k]-n/2 n-k]2~(n-k)]/(2~(n-k)-2).此外,文中也采用了渐进分析技术,证明了PBCC算法生成着色方案规模为O(e2Rootof(ex-eμx 1)(n-k)),在n=2k的情况下结果是O(2.62n-k);同时,文中也证明了n2k情况下着色方案规模的下界为2n-k. 相似文献
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基于COM的Delphi和Matlab接口编程研究 总被引:3,自引:0,他引:3
简要介绍了Delphi与Matlab各自的优缺点,较为全面地列举和分析了二者接口编程的几种方式,重点讨论了Delphi调用Matlab编译生成的COM组件的方法和原理,实现二者的无缝集成.提供的实现过程和应用实例均说明了该方法简便、可操作性强.通过Delphi和Matlab的整合,可以根据实际需要,开发功能强大而且界面友好的软件. 相似文献
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Set Cover和Hitting Set问题是两个重要的W[2]完全问题。Set Cover问题在大规模集成电路设备的测试和人员调度等领域有着广泛的应用,Hitting Set问题在生物计算等领域有着重要的应用。在引入参数计算和复杂性理论后,Set Cover和Hitting Set问题再次成为研究的热点。首先介绍Set Cover和Hitting Set的各种分类问题及其定义,并对各种分类问题的计算复杂性和相关算法的研究进展加以分析总结,给出(k,h)-Set Cover和(k,d)-Set Cover问题的复杂性证明。最后总结全文并提出进一步研究的方向。 相似文献
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单体型检测在遗传病基因的定位、药理反应的研究、个体识别等方面有极其广阔的应用前景。单体型组装问题指如何利用个体的基因测序片断数据,根据不同的优化准则确定该个体单体型的计算问题。对MSR,MFR,MEC,WMLF,MEC/GI等单体型组装模型做了详细的分析比较,得出了如下结论:在没有引入测序误差情况下,上述模型的重构精度基本一致。随着测序误差的增加,MEC/GI模型的容错性最好,重构精度最高;MSR模型受测序误差的影响最大,只适用于测序误差极小的情形。 相似文献
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聚砜类原位复合材料加工流变性 总被引:3,自引:0,他引:3
合成了含4,4'-二羟基联苯和4,4'-二羟基二苯基甲烷结构的两种液晶共聚酯BP-LCP和BPM-LCP,将其与聚砜共混制备原位复合材料。探讨了共混物在Haake转矩流变仪中密炼时转矩的变化;通过毛细管挤出考察了液晶共聚酯分子结构、分子量及含量变化对原位复合材料流变性能的影响,由流动曲线获得这一类原位复合材料熔体大部分表现为假塑料性非牛顿型流体,但含低分子量BP-LCP20%和BPM-LCP30%的两种原位复合熔体均表现出特殊的流变性:较低剪切速率时为胀塑性流体,较高剪切速率时为假塑性流体。分析了这种现象与液晶共聚酯结构形态的关系。并讨论了增强组份和基体的相容性对原位复合材料流变性的影响。 相似文献
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利用磁控溅射法在阳极氧化铝(AAO)模板上制备了Ni亚微米柱阵列,研究了不同退火温度对Ni亚微米柱阵列结构稳定性的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对不同退火温度下制备的Ni亚微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ni亚微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400nm。经400℃退火后,开始形成Al1.1Ni0.9和AlNi金属间化合物。500℃退火后,出现空心Ni亚微米柱,且Ni亚微米柱体积膨胀变粗。600℃退火后,Ni亚微米柱部分脱落。 相似文献
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