半导体激光端点干涉测长法原理探讨

阐述利用半导体激光的频率变化和波长变化测量干涉仪光程差的基本原理，探讨一种在长度的两个端点干涉测量长度的新方法，即端点干涉测长法的原理，推导这种方法测量长度的公式，指出这种方法区别于其它干涉测长方法的独特优点，最后讨论测量中的注意事项以及需要深入研究的问题。     

深紫外和X射线光刻技术

阐述了深紫外光刻技术和Ｘ射线光刻技术的发展，一些相关单元技术，以及深紫外和Ｘ射线光刻技术的前景。     

改善付里叶变换全息图像质的几种方法

本文主要叙述了在全息存贮中改善付里叶变换全息图像质的方法,包括离焦法和随机相移器法。分析了全息图尺寸及其记录的空间频带宽度与离焦量的关系;给出和比较了不同离焦量情况下的以及离焦法与随机相移器法的实验结果。实验和分析表明,选择适当的光束衡量比和曝光量,并将离焦法与随机相移器方法结合用于全息存贮,可以得到较高的再现像衍射效率和信噪比(SNR)。最后还给出了用稀释显影加漂白的方法可进一步提高衍射效率的实验结果。     

离心选矿机精矿冲洗装置的改进

介绍了离心选矿机精矿电磁阀,精尾矿排矿斗控制装置所进行的改进以及改进后达到的较好效果。     

用于KrF准分子激光光刻的衰减相移掩模

讨论了相移掩模提高光刻分辨力的基本原理,提出了一种抗蚀剂相移器制作衰减相移掩模的新方法,利用自行设计、建立的KrF准分子激光投影光刻实验曝光系统进行了实验研究,给出了实验结果,并与传统光刻方法作了比较.     

激光散斑图样法随机相移器在全息照相中的应用

本文叙述了制作随机相移器的三种不同方法,着重论述了用随机分布激光散斑照相漂白法制作的随机相移器在全息存贮中的应用;给出和比较了它们的付立叶频谱分布及在全息存贮中用于改善像质的实验结果。     

掩模缺陷的激光修整

本文叙述用细微激光束修整不透明光掩模缺陷的原理、方法和实验系统,给出了实验结果并进行了简短的分析。     

用于KrF准分子激光光刻的三相移掩模

讨论了相移掩模提高光刻分辨力的基本原理,提出了一种抗蚀剂相移器制作衰减相移掩模的新方法,利用自行设计、建立的ＫｒＦ准分子激光投影光刻实验曝光系统进行了实验研究,给出了实验结果,并与传统光刻方法作了比较。