红外耦合光学系统设计

红外目标模拟器由红外目标图像发生器和投影光学系统组成。该红外光学系统是一个要求与2个导引光学系统的光学技术参数相匹配的长焦距、大视场和具有像方远心光路的中红外光学系统。叙述用于红外目标模拟器的红外耦合光学系统的设计原理，提出它与导引光学系统一起可组成放大倍率M=4.5×的红外投影光学系统，并指出IR CRT产生的图像通过红外投影光学系统可成像在导引接收器上。针对给出的红外耦合光学系统的设计特点和技术要求，光学材料选取硅（Si） 锗（Ge） 硅（Si），采用简单的柯克三片式结构完成光学系统设计。设计评价结果表明，该系统的光学性能和成像质量均满足设计指标要求。     

万兆瓦可调谐窄线宽新型钕玻璃激光装置

本文报道了万兆瓦可调谐窄线宽新型钕玻璃激光装置的特色、所涉及的若干物理问题、装置的总体光路排布和关键技术,以及装置的总体输出性能。     

有限几何和PBIB设计(Ⅱ)

在有限辛几何中,取定一个(m,s)型子空间,并取与这个子空间正交且不含于这个子空间的一维子空间作处理,我们构作了一些结合方案和PBIB设计,并计算了它们的参数.     

因素的混杂设计及其加倍试验法

本文提出了因素混杂设计的理沦,通过加倍试验法,对各因素进行效应分析,并给出了当k≤m/2时的数据分析公式。     

磁性纳米颗粒膜的微磁学模拟

用微磁学方法对磁性纳米颗粒膜的磁特性进行了模拟，采用的模型是由122个磁性纳米颗粒组成的面心立方(fcc)结构体系.结果表明：在该体系中，偶极相互作用对体系的静态磁结构的影响显著，而交换相互作用的影响表现不明显.在此基础上，本文还采用有效媒质理论计算分析了磁性合金颗粒不同体积比时颗粒膜的磁谱和表征电磁参量发生显著变化的逾渗现象和逾渗阈值.并完成了对高磁损耗磁性纳米颗粒膜的材料设计. 关键词： 微磁学 纳米颗粒膜 逾渗阈值 磁导率 材料设计     

掺钛蓝宝石脉冲可调谐激光器在实验室中的应用

介绍了掺钛蓝宝石可调谐激光器在实验室中的应用.自行设计了波长690~900 nm之间连续可调谐激光,单脉冲能量为5 mJ,重复频率为20 Hz,激励采用波长532 nm、能量35 mJ的倍频YAG激光器,经过调谐滤波器,输出连续可调谐激光.     

美国军队信息化顶层设计的主要内容

从美国防部、参联会颁发的“构想”类、“4年防务审查”类和“军事转型”类文件中可以看出，美军信息化建设顶层设计主要有5项内容。     

一类物元可拓集的性质研究

提出了物元等价类概念,并利用子集合X和属性子集R对物元集合S(U,A,V,f)在集合论域U上构造了一类可拓集合A~,并讨论了A~关于X和R的一些相关性质.     

均匀设计及其应用（二）

均匀设计及其应用（二）方开泰第二章均匀设计的应用由于均匀设计要求的试验数较少，我们无法直接估计出各因素的主效应和交互效应，只能通过回归模型来建立试验指标（Ｙ）和各因素之间的关系，利用这种关系来寻求最优工艺条件或最优配方．试验设计的目的通常主要有二个，...     

超大规模集成电路光学光刻技术的现状与展望

光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、