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| 收费全文 | 115篇 |
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学科分类
| 工业技术 | 121篇 |
出版年
| 2023年 | 2篇 |
| 2022年 | 1篇 |
| 2021年 | 2篇 |
| 2019年 | 2篇 |
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| 2003年 | 5篇 |
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| 2001年 | 16篇 |
| 2000年 | 3篇 |
| 1999年 | 6篇 |
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121.
介绍了一种由纯Ni和纯A1合成的特制靶材及用射频磁控溅射法沉积NiA1涂层的新工艺。试验结果表明，该NiA1涂层呈整齐的立方晶体结构，涂层厚约10um，晶粒尺寸约10nm，且该涂层具有良好的耐磨性及与基体之间良好的粘附性。 相似文献
