二三混水平因子设计离散偏差新的下界

离散偏差经常用来衡量部分因子设计的均匀性,偏差的准确下界可以检验给定设计的均匀程度.基于现有的离散偏差的公式,讨论了二、三混水平设计离散偏差的下界问题,并利用泰勒展开的方法给出一个新的下界.与已有的下界相比,所给出的下界在某些设计中更精确.     

组合设计的离散偏差的下界

效应别名是部分因析设计不可避免的问题.由于别名的因子效应会造成数据分析的困扰,因此如何有效的解除别名效应的模糊性是部分因析设计中的重要问题.折叠反转是解除因子别名效应的经典方法.在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的.因此,这些下界可以作为寻找饱和正交设计的最优折叠反转方案的标准,并给出了用基于离散偏差的均匀性准则来寻找最优折叠反转方案的理论依据.     

局部多项式估计的带宽选择

利用局部多项式对有界区间上的回归函数进行估计;在已有结果的基础上给出了一个两阶段的带宽选择方法,从数值例子来看其估计效果比较理想。     

定向师范生培养的课程设置优化

以吉首大学师范学院的定向师范生的专业课程成绩为研究对象,利用SAS软件分别对专业基础课程和专业研究课程进行单因子相关分析,得到任意2门课程之间的相关性结果,再利用典型相关性分析得到专业基础课与专业研究课之间的相关性结果.根据这些相关性结果,提出了定向师范生的课程设置优化的建议.     

混水平饱和正交设计在广义离散偏差下的均匀性

针对二、三混水平饱和正交设计d,在适当的划分下d=(D:),给出设计d的广义离散偏差与子设计D()的广义字长型及均匀性模式的解析关系.同时,给出这类因子设计的广义离散偏差的下界.最后,通过例子来验证其结论.     

互补设计在广义离散偏差下的均匀性

针对一类特殊的二、三混水平部分因子设计d＝(D…),在适当的划分下分别给出了互补设计的广义离散偏差与子设计D) 的广义字长型及均匀性模式的解析关系,同时给出了互补设计的广义离散偏差的下界,最后通过例子来验证其结论.     

基于正态-混合对数正态共轭先验下时序趋势项的贝叶斯推断

系统地分析了AR(p)误差项的时间序列模型及条件似然函数,并根据似然函数的统计结构构造了模型参数的共轭先验分布,研究了正态-混合对数正态共轭先验下模型的贝叶斯推断理论,包括趋势项的核估计参数及先验参数的后验分布的统计推断.     

三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率

为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系，在中心化L₂-偏差度量下，建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系，对于强度为3的三水平正交表，最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计，获得了均匀性模式紧的下界，该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.