NiTi形状记忆薄膜的显微结构和力学性能

NiTi形状记忆合金薄膜具有形状记忆效应，极有希望用于制造高技术领域微电子机械系统中的微型激发器。NiTi形状记忆合金薄膜在制备和使用过程中需要高品质（衬）底材。本文利用高分辨电子显微学和高分辨分析电子显微学详细研究了硅底材NiTi形状记忆合金薄膜的NiTi／Si和NiTi／SiO2微结构体系，包括薄膜精细结构和界面反应。也研究了其显微结构和力学性能的关系。特别给出了NiTi形状记忆合金薄膜产生疲劳过程的微观过程的起因，通过高达十万个使用热循环前后样品显微结构变化的比较，发现纳米尺度上的TiNi3新相的形成导致疲劳过程的发生。如何抑制TiNi3新相形成的研究正在进行之中，这将为进一步提高NiTi形状记忆合金的使用寿命指出方向。     

光漂白法制备有机聚合物非线性定向耦合器

研究了用光漂白的方法制备PMMA/DR1聚合物非线性定向耦合器,提出了一种容易的制备方法来得到要求的耦合长度.测量了材料的光学非线性对定向耦合器两臂透过率的影响.实验结果表明由于光学非线性,耦合器的耦合长度随着入射光强度的改变而发生变化.     

水溶性聚乙烯醇薄膜

详细介绍了一种新型包装材料水溶性聚乙烯醇薄膜－－“可乐利亚”的水溶性、耐久性、耐油性、耐化学性、隔气性、加工性能等，指出了这种新型包装材料的广泛用途，并阐述了使用时的注意事项。     

生长温度对等离子体增强化学气相沉积生长ZnO薄膜质量的影响

以Zn(C2 H5) 2 和CO2 为反应源 ,在低温下用等离子体增强化学气相沉积方法 ,在Si衬底上外延生长了高质量的ZnO薄膜。用X射线衍射谱和光致发光谱研究了衬底温度对ZnO薄膜质量的影响。X射线衍射结果表明 ,在生长温度为2 3 0℃时制备出了高质量 ( 0 0 0 2 )择优取向的ZnO薄膜 ,其半高宽为 0 2 6°。光致发光谱显示出强的紫外自由激子发射与微弱的与氧空位相关的深缺陷发光 ,表明获得了接近化学配比的ZnO薄膜     

国外塑料专利

<正>专利名称:可剥离聚乙烯薄膜专利号:US2007010621公开日:2007.01.11均匀混合物包含10%~90%的茂金属聚乙烯和     

功能薄膜的研究动向

概况近年来,随着科学技术的不断发展,特别是微电子学和高温工程学的显著进步,对材料提出了许多新的特殊功能(如耐高温,耐腐蚀,高强度,高硬度,耐磨损,光、电、磁等性能)的要求。为了满足这些要求,材料工作者一是着手研究材料內部的结构,如非晶、微晶、高完整性结晶等问题,二是着手研究材料表面性能,即材料表面技术。材料表面技术日益受到重视的原因,是由于现代技术对于材料多方面性能的要求,     

交联透明质酸的降解及其释药性能

用己二酸二酰肼（ADH）对透明质酸（HA）进行化学修饰，制备交联透明质酸（HA-ADH）薄膜。粘度法测试表明HA-ADH是一种可降解的生物材料，并且与HA相比，HA．ADH的降解速率减慢。在此基础上，研究了以疏水性的替硝唑（TDZ）和亲水性的头孢唑啉钠（CEZ）为模拟药物的HA-ADH药物载体薄膜的释药性能。紫外-可见（UV-Vis）吸收光谱检测表明，HA-ADH是一种疏水性药物TDZ的优良缓释制荆，这是由于TDZ的疏水性和HA-ADH薄膜的缓慢溶胀和降解性能的结合而得到的，药物的释放主要受扩散机制控制。