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界面能级调控是目前研究优化材料性能的关键步骤之一,界面问题也是目前研究热点.以Si/MoO3界面为例,通过利用多功能光电子能谱仪在清洁后的硅片上蒸镀不同厚度的MoO3并进行XPS及UPS表征,对其表面成分及界面能级进行分析,通过UPS谱图得到功函数和价带顶,利用XPS谱图获取界面化学、界面相互作用等信息.原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)表征结果证实,蒸镀膜的实际厚度和使用晶振表征的理论厚度相近.光电子能谱实验结果揭示:当薄膜的理论厚度低于50 ?时薄膜成分不完全是Mo6+,低于150 ?时仍能检测到Si信号;蒸镀的薄膜理论厚度达到100 ?(功函数为6.81 eV)后,功函数数值趋于稳定,这说明可以在厚度范围内通过控制蒸镀MoO3的厚度调控Si/MoO3的界面能级.在一定范围内,利用不同厚度的薄膜调控界面能级是提高材料性能的方法之一,表明光电子能谱是用于研究界面问题的有效且便捷的表征方法. ![]()
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龚力 《电子计算机与外部设备》2010,(12):158-158
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奥林巴斯单反历史上的顶级专业产品序列——OM家族,终于借着微单数码相机的流行而再次复活了!经过两年的积累之后,作为无反光镜可更换镜头数码相机(MLIC)概念的始作俑者之一,奥林巴斯终于完成了自身微型单电产品体系的第一次大突破——进入无反光镜时代的第一台真正意义上的专业级MLIC产品:E-M5——OM-D系列单电 相似文献
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