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目前各种控制系统中,通常采用广播校时的方式,对同一网络内的计算机进行时间同步。由于传播过程中的网络延时、网络传输速度等原因,采用这种方式的校时精度很难得到保证。针对这种情况,提出了一种基于GPS全球定位系统的校时方法,采用了精粗组合的手段提高了校时的精度。实验结果表明,该方法校时精度较高,具有一定的实用性。 相似文献
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黄河流域实施水功能区限制纳污红线管理的整体构想与初步实践 总被引:1,自引:0,他引:1
水功能区限制纳污红线管理是实行最严格水资源管理制度的核心内涵之一。黄河流域水安全问题是中国水安全问题的缩影,探索构建行之有效且具有黄河流域特色的纳污红线管理制度体系和工作格局,对于提高黄河流域水安全保障能力意义重大。针对黄河流域的水资源质量状况,探索建立流域与区域相结合、水利与环保相联合的黄河水资源保护管理体系,构建流域水功能区划及水资源保护规划体系,依法强化以入河排污口为重点的水功能区管理,积极探索水生态系统保护与修复,加强水质监测网络体系建设等一系列措施,为黄河流域实施纳污红线管理提供了良好的工作基础和能力支撑,并在此基础上阐述了黄河流域实施纳污红线管理的整体构想与初步实践。 相似文献
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为扩大太湖流域空间数据库数据的覆盖范围,提高数据完整性,太湖流域管理局组织在原有1:250000水利基础电子地图的基础上开展1:50000水利基础电子地图数据库的建设。介绍太湖流域1:50000水利基础电子地图数据库建设的背景及资料收集的情况,描述水利基础电子地图数据库建库的流程。针对建设成果的复核,以河流图层为例介绍图形和属性数据复核的方法,并为满足成果展示的需求,提出河流分级的几点原则,以期为下一步开展流域水利普查和防汛抗旱、水资源管理工作提供基础数据。 相似文献
86.
提出了一种基于传统报警方式触发的电站故障自诊断专家系统.以除氧器为诊断对象,采用报警状态信息触发专家推理过程,利用实时征兆以及规则库进行故障类型的有效实时诊断.现场测试表明,诊断结果准确,且具有一定的容错性. 相似文献
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Yiming Li 《Journal of Computational Electronics》2006,5(4):371-376
In this paper, electrical characteristics of 25 nm strained fin-typed field effect transistors (FinFETs) with oxide-nitride-stacked-capping
layer are numerically studied. The FinFETs are fabricated on two different wafers, one is bulk silicon and the other is silicon-on-insulator
(SOI) substrate. A three-dimensional device simulation is performed by solving a set of density-gradient-hydrodynamic equations
to study device performance including, such as the drain current characteristics (the ID-VG and ID-VD curves), the drain-induced barrier height lowering, and the subthreshold swing. Comparison between the strained bulk and
SOI FinFETs shows that the strained bulk FinFET is promising for emerging multiple-gate nanodevice era according to the manufacturability
point of view. 相似文献
90.
In this paper, electrical characteristics of metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) with silicon/gallium-arsenic
(Si/GaAs) stacked film are numerically studied. By calculating several important device characteristics, such as the on-state
current, the subthreshold swing, the drain induced barrier lowering, the threshold voltage, the threshold voltage roll-off,
and the output resistance, a 50 nm Si/GaAs MOSFET is simulated with respect to different thicknesses of Si/GaAs film. Compared
with the results of pure Si MOSFET, Si/GaAs MOSFET shows promising characteristics after properly selecting the thickness
of Si/GaAs film. Among Si, germanium (Ge), and Si/Ge MOSFETs, Si/GaAs MOSFET relatively exhibits a higher driving capability
due to higher carrier mobility within the Si/GaAs film. However, quantitatively accurate estimation of device characteristics
will depend upon more precise calculation of band structure of the stacked film. 相似文献