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用偏振差分透射谱技术测量半导体晶体片应力分布 总被引:1,自引:0,他引:1
利用偏振差分透射谱测量了2英寸圆形GaAs晶片、自支撑GaN衬底和蓝宝石衬底等的双折射分布,通过弹光效应换算得到了晶片内部残余应力分布.测量得到的应力反映的是晶片各个点的[110]和[110]方向的应变差.实验测量得到的GaAs晶片和自支撑GaN 衬底的[110] 和[110]的应变差最大可以达到10-5数量级.蓝宝石衬底的可以达到10-6数量级.因此TDS可以对透明或者半透明晶片的应力分布实现快速、实时、无损、高灵敏度检测. 相似文献
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在室温下用偏振差分反射谱技术观察到了 Ga As/Al Ga As、In Ga As/Ga As和 In Ga As/In P三种量子阱材料的平面光学各向异性。我们发现 Ga As/Al Ga As量子阱 1 h→ 1 e跃迁的偏振度与阱宽成反比 ,与 In Ga As/In P量子阱的报道结果类似。 Ga原子偏析引起的界面不对称可以很好地解释这种行为。与之相反 ,In Ga As/Ga As量子阱的光学各向异性倾向于与阱宽成正比。目前还不能很好地解释这种现象。 相似文献
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We employed the microscopic reflectance difference spectroscopy (micro-RDS) to determine the layer-number and microscopically image the surface topography of graphene and MoS2 samples. The contrast image shows the efficiency and reliability of this new clipping technique. As a low-cost, quantifiable, no-contact and non-destructive method, it is not concerned with the characteristic signal of certain materials and can be applied to arbitrary substrates. Therefore it is a perfect candidate for characterizing the thickness of graphene-like two-dimensional materials. 相似文献
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