焦化废水生物脱氮系统冬季的快速达标排放

由于焦化废水生物脱氮系统冬季开工，针对气温、水温低，污泥中微生物活性小以及原料废水短缺等问题，经系统分析及合理安排，采取向好氧池内通蒸汽保温、预先向好氧池投加活性污泥再加废水等措施，投产7d后，出水氨氮达到了15mg／L以下，达到了国家一级排放标准。确保了焦化系统工程实现“三同时”，同时使新建焦化工序废水实现了“零排放”。     

下一代无线局域网安全性研究

介绍了两种新型无线网络安全协议IEEE802.11i和WAPI,并对两种协议的安全性进行了分析,指出了IEEE802.11i存在一定的安全隐患,而WAPI可更好地保护网络安全.     

论表见代理

<正> 代理制度是指代理人基于被代理人的授权,代表被代理人同相对人为一定法律行为,其后果由被代理人承担的法律制度。代理制度作为民商法的基本制度,随着市场经济基本制度的不断完善和发展,发挥着不可替代的作用。在代理制度中的无权代理的有关问题对整个代理制度有着重要影响,其中狭义无权代理的规定相对较多,而表见代理制度,仅在《合同法》第四十九条有所涉及,这对于解决日益复杂的民商事活动就显得有些捉襟见肘,因此完善表见代理制度的基本问题是完全必要的。     

具有执行器饱和特性的不确定系统预测控制器设计

针对具有执行器饱和特征的不确定系统,提出了一种带有状态观测器的新型预测控制器设计方法.该方法在滚动优化的每一步,采用带有饱和特性的反馈控制结构得到一个最优控制律,使无穷时域性能指标最小.考虑在状态不完全已知的情况下,设计了带有状态观测器的预测控制器,并通过观测器参数调整使闭环系统渐近稳定.通过仿真实验验证了所设计控制器的有效性.

     

地球以外时间规则研究

时间规则是为统一时间而制定的测量和计算时间的方法,包含 3 个要素, 即约定的时间单位和约定的时间起点, 以及 时间历法. 现有的时间规则仅适用于地球及其引力势范围内, 不适用于地球以外的浩瀚宇宙空间. 实现地球以外宇宙空间的 时间统一是人类走向太空的必然要求。 本文阐述时间规则的定义和内涵, 用广义相对性原理论证同时性仅存在于同一个坐标 系内,不同坐标系之间不存在同时性, 进而介绍了相对论中两种时间概念: 原时和坐标时, 用看似无穷远处的脉冲星来复现坐 标时. 比较两种时间统一的模式:“中心守时, 局域授时”模式和“局域原时, 全域坐标时”模式。 重点区分绝对时间观和相对 时间观, 认为相对时间观是解决地球以外时间统一问题的关键,再次运用相对时间观点解释时间规则的三要素,进而推出空间 守时系统的概念。     

一类并行机调度问题的动态调度算法

针对不确定制造环境中配件数量约束条件发生变化后的并行机动态调度问题,提出了一种基于操作属性模式的并行机动态调度算法.该算法针对总拖期时间性能指标的优化,根据配件负载的裕量和相邻操作的属性模式,对原调度方案的操作次序和操作上机时间进行了调整.在不同操作和设备规模下,以及不同配件数量变化幅度下进行了数值计算.数值计算结果和实际应用结果表明,该算法是有效的,具有计算复杂度低、实时性好、对原调度算法不敏感的特点.     

超硬刀具的应用

超硬刀具在现代工业的应用越来越多，如今在航空、航天、钟表、电机、木材及非金属材料加工中，超硬刀具都有广泛的应用，且收到了良好的经济效益。常用的超硬刀具有天然金刚石刀具，聚晶金刚石刀具（PCD），聚晶立方氮化硼刀具（PCBN）等。一、天然金刚石刀具天然金刚石刀具是目前超精密切削加工领域中常用的刀具，其刃口极锋利，刃日圆弧半径可达200A～3O0A，在500倍显微镜下观察，刃口平直，无崩口，加工工件表面粗糙度值极低，可达Ra≤0．01μm的镜面加工水平，常用于铜、铝及其合金材料的精加工，如菲涅尔透镜、表壳、金笔、电机…     

国际单位制的基本常数综述

新的国际单位制(SI)从2019年5月20日正式实施,具有划时代的意义。综述从秒、米、千克、安培、开尔文、坎德拉、摩尔这7个基本物理单位到7个基本物理常数发展的过程,揭示他们之间的内在物理联系,对基本单位定义的含意进行深入剖析.在SI量纲表达中原7个基本单位仍然不可替代,但是已经不再作为量值溯源的源头,单位的定义也有所更新,而7个基本物理常数成为了量值溯源的根.展望了新的国际单位制对计量学发展的意义。     

GB/T32304《航天电子产品静电防护要求》标准解读与应用浅析

随着电子技术的高速发展,静电损伤已经成为影响航天电子产品质量稳定性和成功率的关键因素之一,静电防护也越来越受到我国航天领域的高度重视.本文分析了当前国内外静电防护系统标准现状,对国家标准GB/T 32304-2015《航天电子产品静电防护要求》内容进行解读并与国际先进标准进行对比分析,最后给出了该标准的应用建议.     

铝溅射沉积速率与刻蚀槽深度变化关系研究

采用磁控溅射法制备铝膜是微电子工艺制备金属薄膜最常用的工艺之一,然而在使用磁控溅射设备制备铝膜时,往往会发现调用同一个工艺菜单,制备出的铝膜厚度会有所不同,最大相差接近40%。这对于制备高精度膜厚的铝膜具有严重的影响。我们研究发现在相同的工艺条件下,铝膜的溅射速率随着靶材的消耗先增加,后降低。通过研究靶材刻蚀槽的形状,利用磁力线分布的变化和"空心阴极效应"理论解释了溅射速率产生变化的原因,并根据大量的统计数据,利用Origin软件模拟出铝膜溅射速度与刻蚀槽深度之间的关系公式。这为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域高精度溅射铝膜提供参考。