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21.
MD膜驱剂的粘土稳定性研究Ⅰ.静态试验   总被引:1,自引:0,他引:1  
粘土的膨胀和分散是引起地层伤害的两个重要因素。通过测定Zeta电位、XRD、悬浮液透光率、FT-IR考察了MD膜驱剂(MDFFA)对粘土稳定性的作用。结果表明,MDFFA的浓度低于0.3 mmol/g(以蒙脱土质量计)时,蒙脱土悬浮液Zeta电位的提高是由于膜驱剂分子的吸附改变了蒙脱土的层电荷;高于此浓度时,Zeta电位进一步提高是由于双电层的压缩。随着MDFFA浓度的增大,蒙脱土的完全膨胀层向部分膨胀层转化,并且经水冲洗、浸泡后,其XRD谱峰位置变化不大。较高浓度的MDFFA,能有效地抑制蒙脱土的分散,且不会形成对地层有害的絮凝体。MDFFA使蒙脱土层间水的含量明显降低。  相似文献   
22.
博兴洼陷沙四上亚段高精度层序格架研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
博兴洼陷下第三系沙四上亚段滩坝砂体十分发育,主要是一套砂泥岩的薄互层,横向变化快,在地震剖面上难以识别和描述,用常规的地质研究方法难以预测砂体的分布趋势。本文应用高精度层序地层学的原理和方法,通过测井、岩心资料的综合分析,重点对沙四上亚段进行了高精度层序地层划分,共识别出了5个具有等时意义的水进面(四级层序界面),建立了洼陷内沙四上亚段的四级层序格架,在四级层序格架基础上进行了沉积体系分析,并对层序发育的控制因素进行了探讨。本研究对洼陷内隐蔽油气藏的进一步勘探具有重要的指导意义。  相似文献   
23.
七里北地区钻井工程地质特征及提高钻速的技术途径   总被引:2,自引:1,他引:1  
马光长  凌忠 《钻采工艺》2006,29(1):12-16
七里北潜伏构造南邻渡口河、北邻铁山坡,这些构造均在飞仙关鲕滩钻获良好的天然气,具有很好的勘探前景。七里北1井钻探表明,该井在飞仙关地层获天然气80×104m3,但储层埋藏深度达5600m,且侏罗系地层的钻井工程地质条件与相邻构造有显著差异,钻井速度低和钻具事故多这两大问题突出,严重制约了探井钻井速度。认真分析了七里北1井的钻井工程地质特征,有针对性地提出提高飞仙关探井钻井速度的技术途径,有利于解决钻井工程面临的突出问题,对加快该地区飞仙关鲕滩气藏的勘探速度有着重要意义。  相似文献   
24.
叶霞  林云 《信息技术》2006,30(11):44-47
在STBC—OFDM系统的基础上介绍了SFBC—OFDM系统的原理、编译码方案,并通过仿真做出了SFBC—OFDM系统在快衰落信道下的性能,同时与STBC—OFDM系统的性能进行比较。结果表明:SFBC—OFDM系统在室内环境即时间延迟缓慢的情况下性能与STBC—OFDM基本上达到一致,在室外环境快衰落情况下性能要比STBC—OFDM系统要好。  相似文献   
25.
周福才  林龙  王金营  徐剑 《通信学报》2006,27(10):69-73
利用椭圆曲线离散问题对数问题的难解性,给出了基于椭圆曲线密码体制的(t,n)门限秘密共享方案。基于门限秘密共享方案一般分为需要SDC和不需要SDC两类,在分布式环境下,一个被所有成员信任的SDC并不存在,不需要SDC的门限秘密共享方案的安全性得到很大的提高,该方案中由组成员共同生成群公钥和私有密钥。并给出了当新成员加入时,无SDC下的周期密钥分片的更新方案。还给出了一个本方案数据实例,最后对本方案的安全性进行了分析。  相似文献   
26.
Based on the voltage and current fluctuating phenomenon in the arc plasma load under the negative-pulse-bias, usingthe plasma physics theory and analysis of computer simulation expatiates that the nature of plasma load in vacuumarc plasma is a capacitance  相似文献   
27.
运动饮料配方设计概论   总被引:7,自引:0,他引:7  
运动中,人体生理发生一系列的变化,包括水分损失、血糖/糖原消耗、电解质损失等,导致运动中/后的疲劳和运动能力下降。以运动中人体生理特点为基础,通过讨论运动前/中/后补充水、碳水化合物及电解质的问题,论证了运动饮料配方设计的原理依据。  相似文献   
28.
介孔材料制备及研究进展   总被引:4,自引:0,他引:4  
介孔材料是一类孔径分布在1.5~50nm之间的多孔材料,具有比表面积大,孔隙率高,孔径分布窄,孔排布有序的特点,在催化、分离等领域具有广阔的应用前景。综述了介孔材料近些年在制备、应用、机理等方面的最新进展与前景展望。  相似文献   
29.
采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm.  相似文献   
30.
分析了设备对PCB电镀过程中孔中镀液更新之影响,为有效地利用设备条件改善孔中镀液的更新提供了一些方法及理论数据。  相似文献   
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