燃气轮机装置中湿压缩过程的数学模型

以广义热力学力为驱动势研究传质过程,得出了水蒸气在空气中传质系数的表达式,在此基础上,建立了湿压缩过程的数学模型。     

ARL3520型ICP扫描直读光谱仪的技术改造

给出了一种ARLD3520型电感耦合等离子体发谱的技术改造方法。在“光栅摄谱仪升级改造技术”的基础上,结合该仪器的具体特点,对仪器光源进行了检修和局部改造;用现代通用型计算机取代原有的专用计算机,设计了光电测量控制电路;开发了基于Windows操作平台的ICP实时分析软件技术。阐述了新编写研制的软件、硬件接口电路的结构及特点,并给出了仪器改造后的性能指标。     

日本岛津ICPS—50型单道直读光谱仪的技术改造

对日本岛津ICPS－50型单道直读光谱仪在无技术资料的情况下了改造升级,首先对其进行全面拆卸剖析,了解仪器的传动机构构造和原理。根据此仪器的具体情况,除保留其单色器和外光路外,其它部分均进行修复和技术改造,其改造内容主要有：传动机构、软件、硬件电路、光源的检修调整等。将这一台不能顺序扫描的低档单道直读光谱仪改造升级新水平的顺序扫描直读光谱仪。     

高速飞行器回转体部件精密磨削工艺参数优化设计

磨削工艺参数的优化是提高生产率、改进工件质量和降低成本的重要手段.通过多元非线性回归分析建立高速飞行器天线罩(系复杂曲面薄壁回转体零件)加工形状精度的数学模型,根据最优化原理,针对传统优化方法的不足,将遗传模拟退火混合优化策略(GASA)用于实现以加工最大生产率和形状精度为目标的多目标优化,得出了最优的磨削工艺参数组合方案.根据优化后的结果设计并完成了相关的工艺实验,通过分析比较及实际应用,验证了该方法的有效性、正确性和实用性.     

重组人p53腺病毒注射液联合放射治疗对人淋巴瘤细胞的抑制作用

本研究利用四氮唑盐(Methyl thiazolyl tetrazolium,MTT)比色法、激光共聚焦型显微镜扫描技术和流式细胞术分析重组人p53腺病毒注射液(商品名今又生,rAd-p53注射液)对人淋巴瘤细胞的抑制作用及其辐射增敏性.结果表明,rAd-p53对淋巴瘤细胞的抑制作用呈时间和剂量依赖性效应,但其抑制效应不明显均未达到有效抑制率.放疗及联合治疗后,细胞抑制率及凋亡率明显增高,形态和周期均发生变化,但两者直接差别不显著.以上说明rAd-p53对人淋巴瘤细胞的转染率还有待进一步提高,以增强细胞对辐照的敏感性.     

大型航天火箭喷管铣槽加工系统

铣槽加工是大型航天火箭喷管制造中的关键工序。根据零件的各自特点,开发和研制了不同的铣槽加工方法。对于具有不均匀壁厚和较大误差外型面的直槽大型喷管,采用数控仿形和数字化补偿加工技术,对于具有多种母线轮廓的等倾角（螺旋线切线与母线的切线成定角）螺旋槽喷管,采用甲轴联动的数控加工。以上两种加工方法的控制系统和机床已经交付使用,解决了航天领域制造技术中的一项难题。     

用三带和全带模型蒙特卡罗方法模拟纤锌矿相GaN体材料输运特性结果的比较

报道了分别用三带和全带模型蒙特卡罗方法模拟纤锌矿相GaN体材料输运特性的结果,并对基于两种模型的模拟结果进行了比较.在低场区,基于两种模型获得的输运特性基本相同,但在高场区却表现出明显的差别.这是因为在高场区,电子平均能量较高,多数电子处于能带图中的高能态位置,电子能量与波矢量的关系表现出明显的非椭圆特性.由于三带模型假定了能量与波矢量简单关系,故算得的平均能量,高于由全带蒙特卡罗模拟算得的能量.从而导致其它特性的差别.全带模型包含了基于能带理论算得的能带结构的所有特性,故模拟结果更加精确.     

Ar气压对射频磁控溅射铝掺杂ZnO薄膜特性的影响

在Corning 1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行.通过在0.2～3.2Pa范围改变溅射氩气氛压力pAr,研究了不同pAr对样品的晶体结构、电学特性、光学特性和表观形貌的影响.利用X射线衍射(XRD)、透射和反射谱测量、扫描电子显微镜(SEM),发现不同pAr下ZnO∶Al薄膜都具有垂直于衬底C轴择优取向.在可见光谱范围,pAr对透过率的影响非常小,薄膜的平均透过率大于83%,但红外透过率与薄膜的电阻率成正比.在较低的溅射气压下(pAr=0.2Pa)获得的薄膜电阻率最小,对应有大的光学带隙(3.61eV).随着pAr的降低,晶粒尺寸增大.pAr对ZnO∶Al薄膜的表观形貌有显著的影响.     

Ar气压对射频磁控溅射铝掺杂ZnO薄膜特性的影响

在Corning 1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行.通过在0.2～3.2Pa范围改变溅射氩气氛压力pAr,研究了不同pAr对样品的晶体结构、电学特性、光学特性和表观形貌的影响.利用X射线衍射(XRD)、透射和反射谱测量、扫描电子显微镜(SEM),发现不同pAr下ZnO∶Al薄膜都具有垂直于衬底C轴择优取向.在可见光谱范围,pAr对透过率的影响非常小,薄膜的平均透过率大于83%,但红外透过率与薄膜的电阻率成正比.在较低的溅射气压下(pAr=0.2Pa)获得的薄膜电阻率最小,对应有大的光学带隙(3.61eV).随着pAr的降低,晶粒尺寸增大.pAr对ZnO∶Al薄膜的表观形貌有显著的影响.     

一种新的各向异性腐蚀液—乙醇胺水溶液

本文介绍一种新的用于硅的各向异性腐蚀液——乙醇胺水溶液。用该种腐蚀液成功地在硅(100)面上腐蚀出了侧壁光滑、钻蚀很小的V形槽,在(110)面上腐蚀出了U形槽。实验表明,这种腐蚀液与目前已报导的三种各向异性腐蚀液相比,具有无毒,无碱金属离子沾污,操作简便及容易控制等优点。实验给出了(100)、(110)、(111)面的腐蚀速率与腐蚀液浓度和腐蚀温度的关系曲线;讨论了最佳腐蚀条件;测定出低指数(100)、(110)和(111)晶面的腐蚀反应表现激活能均为10.7±0.5千卡/克分子。同时也对腐蚀中出现的若干现象进行了分析和讨论。