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半导体产业是支撑经济社会发展和保障国家安全的基础性、战略性和先导性产业,单晶硅由于具有独特的物理及化学性质,在半导体产业中占有重要的地位,多晶硅作为制备单晶硅的前驱体,对纯度的要求尤为严苛,因此本文研究了一种采用低成本混酸清洗多晶硅块,进而制备高纯多晶硅的新型方法。在室温环境中,采用纯度为电子级(EL)、超纯(UP)、超纯MOS(UP-S)级的由氢氟酸和硝酸组成的混酸溶液清洗多晶硅块,所得多晶硅表面金属含量均在2 ppbw以下,即符合半导体级多晶硅对表面金属含量的要求;并研究了多晶硅表面金属含量与清洗过程所消耗EL级混酸之间的关系,发现使用300ml VHF:VHNO3=1:10的由氢氟酸和硝酸组成的EL级混酸溶液可以清洗出3.33kg半导体级多晶硅,说明低成本EL级混酸也可以广泛用于半导体级多晶硅的工业生产中。 相似文献
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提出了以萃取精馏法从加氢裂解重芳烃中提取三甲苯的工艺路线,测定了加氢裂解重芳烃中各主要组分之间的相对挥发度,对比分析不同溶剂对相对挥发度的影响,确定了合适的萃取精馏溶剂及其与原料之间的最佳配比. 相似文献
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以日本下水道事业发展为依据,详细论述了排水工程设置的必要性、功能与作用.提出排水工程是生态环境保护和建设及山川秀美工程的基础,必须优先发展排水工程事业. 相似文献
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