首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   14942篇
  免费   838篇
  国内免费   712篇
工业技术   16492篇
  2024年   98篇
  2023年   377篇
  2022年   366篇
  2021年   338篇
  2020年   386篇
  2019年   475篇
  2018年   515篇
  2017年   253篇
  2016年   299篇
  2015年   361篇
  2014年   729篇
  2013年   577篇
  2012年   743篇
  2011年   735篇
  2010年   730篇
  2009年   691篇
  2008年   686篇
  2007年   712篇
  2006年   604篇
  2005年   544篇
  2004年   488篇
  2003年   494篇
  2002年   416篇
  2001年   389篇
  2000年   311篇
  1999年   253篇
  1998年   232篇
  1997年   211篇
  1996年   230篇
  1995年   204篇
  1994年   230篇
  1993年   199篇
  1992年   233篇
  1991年   241篇
  1990年   220篇
  1989年   206篇
  1988年   108篇
  1987年   128篇
  1986年   130篇
  1985年   150篇
  1984年   125篇
  1983年   118篇
  1982年   93篇
  1981年   107篇
  1980年   83篇
  1979年   73篇
  1958年   50篇
  1957年   65篇
  1956年   77篇
  1955年   51篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
作者在大量实验的基础上,详细提出了聚合硫酸铁的实验室及工业合成方法、原理及其应用。  相似文献   
72.
本文以现行国家标准(GB/T11805-1999)的有关技术规范为依据,并运用根目展开的方式,剖析了水电机组自动化元件(装置)的配置中所涉及的各监控参量,监控内涵以及监控手段等要素关系,图表简明切实,可供同业人员实作中参考。  相似文献   
73.
<正>在低的衬底温度(约300℃)下生长的GaAs层具有较高的电阻率,较小的光敏特性。低温生长的GaAs层用于MESFET作缓冲层,能够消除背栅效应,改善光敏特性等。国外研究结果表明,低温GaAs缓冲层为富砷结。 用国产MBE—Ⅲ型分子束外延设备进行低温生长GaAs层的研究。半绝缘GaAs衬底温度约580℃,生长约50nm GaAs层。反射高能电子衍射(RHEED)的衍射图样为(2×4)结构。然  相似文献   
74.
圆管状声波换能器瞬态过程的分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
法林  何芳钧 《测井技术》1992,16(3):183-189,198
结合石油测井的实际情况,首次从理论上对常规声波测井仪中采用的圆管状压电陶瓷声波换能器在阶跃电压、冲激电压和正弦间断电压等激励信号的作用下的瞬态过程进行了分析,推导出了在上述几种情况下圆管状压电陶瓷换能器的声源函数和谱函数,并叙述了推导结果在声皮测井中的应用。  相似文献   
75.
地下采矿生产包括一系列相互关联的工艺过程。在研究地下矿山生产效率管理方法时,主要任务是确定与各个工艺过程密切相关的判据参数。根据作者的研究,即把合格块度看作是这样的一个参数。一般都根据矿石和围岩的物理技术特性、矿石储量、矿石品位、矿区地表状况和生态环境等地质和矿山技术资料进行矿山设计。根据这些资料选择采矿方法(空场法、支  相似文献   
76.
开发研制100LFB—32稀酸净化循环泵。其衬里所选之聚全氟乙丙烯和聚四氟乙烯的复合物,较PVC、PE和ABS性能皆优良;结构设计形式避免了酸的泄漏和下轴承磨损。泵效率>50%。工业性试验,连续运行3000小时以上。  相似文献   
77.
78.
试验用炸药本研究所用的炸药为硝化甘油炸药,乳化油炸药,泰安,黑索金,特屈儿和奥克托金。采用介质损耗(dielectric loss)大的碳化硅和活性炭作添加剂。取炸药0.2~0.45克置于硬氧化铝管中  相似文献   
79.
金属矿床采用高效率采矿方法有助于推广自行式设备和提高技术经济指标,但自行式设备作业时会往矿井大气中排出大量有毒气体和粉尘。为了改善劳动条件,必须采取一系列技术措施,以便将有害物质含量降到极限容许浓度。巷道通风是主要的措施之  相似文献   
80.
业已明了,SOI器件用绝缘物进行元件隔离,可减小电容和布线电容值。所以,人们深信集成电路可达到更加高密度,高速化。大家早就知道,SOI器件有采用在蓝宝石单晶衬底上外延生长单晶硅薄膜的“蓝宝石上硅”(SOS)器件及采用在SiO_2上沉积多晶硅薄膜制作的“绝缘体上硅”(SOI)器件。采用多晶硅薄膜制作的SOI器件与SOS器件相比较,其特点是,由于SOI器件能在非晶形绝缘膜上制作,所以,可采用任意衬底。但存在的问题是,由于其采用的薄膜不是单晶而是多晶,所以晶粒边界会造成载流子紊乱,MOS FET的场效应迁移率与体硅及SOS相比,降低至1%。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号