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11.
利用等离子体电解渗技术,在TC4钛合金表面制备了等离子体电解氮碳共渗(PEN/C)层.用X射线和扫描电镜分析了渗层的成分和结构特征;用动电位极化曲线和电化学阻抗谱分析PEN/C渗层在3.5%的NaCl溶液中的电化学腐蚀行为和耐蚀性.结果表明在钛合金表面形成的PEN/C渗层为多孔状Ti(C,N),它提高了基体的腐蚀电位,增大了电荷转移电阻,减小了腐蚀电流密度.PEN/C渗层提高了钛合金基体的耐蚀性.  相似文献   
12.
在尿素、硝酸铵和蒸馏水组成的电解液体系中,利用液相等离子体电解渗技术在TC4钛合金表面制备碳/氮共渗层,采用SEM、XRD和摩擦磨损试验分析渗层的表面形貌、相结构和磨损性能。试验结果表明:等离子碳氮共渗层主要由TiCN相、TiO相和Ti相组成,工作电压和占空比的提高可以显著增加渗层厚度及硬度,降低渗层的平均磨损率。  相似文献   
13.
ZM5镁合金在不同溶液体系中微弧氧化行为的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用脉冲交流电源在多种电解液中对ZM 5镁合金进行微弧氧化表面改性处理.结果表明:ZM 5镁合金能够在硅酸钠、磷酸钠、铝酸钠三种溶液体系中进行微弧氧化处理;三种溶液中制备的氧化膜耐蚀性差异明显.其中,硅酸钠溶液中制备的氧化膜耐蚀性最佳;硅酸钠溶液中所形成的微弧氧化膜主要组分是Mg2 SiO4相.  相似文献   
14.
通过电化学分析和盐雾腐蚀试验,对镁合金微弧氧化和黑色化学氧化后表面膜的耐蚀性能进行了比较.结果表明:镁合金经过微弧氧化和黑色化学氧化后,耐蚀性能均有提高,但是黑色化学氧化后镁合金的耐蚀性提高更为显著.  相似文献   
15.
镍基单晶涡轮叶片弹塑性应力晶体取向优化   总被引:1,自引:0,他引:1  
对镍基单晶涡轮叶片的晶体取向进行弹塑性优化分析,结果显示叶片考核点的应力应变为晶体取向的函数。通过对晶体取向的优化,对给定叶片考核点的等效应力最多可下降约8%。单晶叶片应力应变与晶体取向相关,充分利用晶体取向对单晶叶片力学性能的影响,合理控制晶体铸造取向,能够较大地提高单晶涡轮叶片力学性能。通过控制晶体的生长方向可以降低涡轮叶片关键部位的应力和应变,延长其使用寿命。  相似文献   
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