法国西部的铀矿床:铀沉淀的矿物成份和地球化学

法国西部的热液铀矿脉与华力西期的同构造浅色花岗岩及其周围的变质岩存在着空间联系。已对这些矿床进行了研究,即进行了固相、有关的流体和成矿作用(与岩性和地球化学环境密切有关的因素)以及与成矿年     

高压水射流辅助破碎煤和矿石

在美国密苏里Rolla大学高压实验室进行的研究表明高压水射流能够用来采掘煤和矿石、切割材料，也能用于破碎煤和矿石。如果将目前普遍应用的压力破碎原理转变为另一种原理，即颗粒在内部水射流压力作用下，通过使其内部原来存在的裂缝或裂纹的拉伸扩展而实现颗粒破裂，那么在破碎方面就会取得新的进展。我们在一些试验中对这一想法进行了研究。试验包括在有或没有压力载荷的情况下将不同的水射流作用于煤和岩石样品上。     

下一代PET技术

本文将介绍由杜邦公司和 Fluor Daniel公司联合开发的最新包装级 PET树脂的生产技术。这项技术是以杜邦的“下一代”( next generation)PET工艺 NG3法为基础的。这种独特的技术是特别为生产瓶级树脂市场用的高分子 PET而设计的。这个方法导致了瓶级 PET树脂厂商的成本显著降低。NG3法脱胎自常规 PET技术。 NG3法先生产一种低特性粘数的中间体 ,然后进行大部分的固相聚合 ,而不是依靠熔融装置生产具有高特性粘数 (典型 IV约为 0 .6～ 0 .65 )的中间体。在 PET工业中 ,被公认的其他先驱厂商过去曾尝试过这种方法 ,但由于低特性粘…     

Stress in Thin Films;Diffraction Elastic Constants and Grain Interaction

Untextured bulk polycrystals usually possess macroscopically isotropic elastic properties whereas for most thin films transvers isotropy is expected,owing to the limited dimenionlity .The usually applied models for the calculation of elstic constants of polycrystals from single crystal elastic contants(so-called grain interaction models)erroneously predict macroscopic isotropy for an(untextured) thin film.This paper presents a summary of recent work where it has been demonstrated for the first time by X-ray diffraction analysis of stresses in thin films that elastic grain interaction can lead to macroscopically anisotropic behaviour (shown by non-linear sin^2φ plots).A new grain interaction model,predictin the macroscopically anisotropic behaviour of thin films,is proposed.     

连铸坯在线整体表面无损检测

借助于一台涡流探伤仪探测连铸坯宽面纵向裂纹实现了连铸坯在线整体表面检测，从而补充已有的边部操作系统，检测结果的处理是以完全自方式进行的，并被归入过程信息中，从而改进了板坯管理。     

氰亚金酸盐在活性炭上的吸附模式——第Ⅲ部分:用活性炭、聚合物吸附剂和1-戊醇提取氰亚金酸盐的比较

研究了活性炭吸附氰亚金酸盐的影响因素(如阳离子的类型),并与早先使用1-戊醇和聚合物吸附剂树脂模拟体系进行的工作做了比较。根据在吸附介质中Au(CN)_(2~-)阴离子和M~N+阳离子之间形成的并随后被吸附到炭表面上的离子对类型,即[M~(n+)][Au(CN)_(2~-)]n有力地说明了阳离子性质的影响。在热解的聚合物吸附剂研究中,已确认活化温度对氰亚金酸盐的吸附有着非常重要的影响。x-射线衍射表明,这种影响与形成带有大量微孔的石墨型结构有关。通过E.S.R光谱进一步阐明了吸附的机理,表明在吸附离子对和缩合芳烃结构之间还可能存在一种特殊的相互作用。     

工艺参数对多涂层结构及性能的影响

由磁控溅射方法制得的多层TiC/TiB_2,在沉积过程中采用了不同程度的离子轰击,在以前的研究中,考虑到裂纹扩展阻力及磨损特性,特别在间歇切削条件下,5μm厚的整个涂层产生最佳性能的单层数目大约100～200,有迹象表明,界面区域阻碍裂纹,基体不加偏压溅射后,这些区域大约有2～3nm的扩展带,在沉积过程中,离子轰击导致相似的界面区域,改变了涂层组织,并且特别在多层涂层的情况下可以得到最好的涂层性能,对5μm厚涂层,要获得最佳性能及耐磨性大约需500单层,本文研究组织结构、性能与工艺参数间的关系。