光化学灼坑与光记录材料

随着社会的高度信息化,大量信息的记录保存愈显重要,因此,需要能进行高密度大容量记录的存储介质。当今的信息记录,以最先用于计算机的磁记录为主。按照不断提高记录密度与容量的要求,目前热衷于研究能进行更高密度记录的光记录。光记录的记录容量预期为磁记录的10～100倍。作为光记录用的激光盘,     

世界最高密度的光记录材料

在一根头发丝大小的截面区域能记录相当于四页报纸的信息量——三菱电机公司采用光化学灼坑(Photochemical Hole Bu-rning,PHB)法开发了一种记录密度为1×10~(10)bit/cm~2的超高密度记录材料,达到了世界最高的记录密度。它对于今后高度信息化社会具有重大意义。通产省工业技术院正期待着该技术的实用化。用光来记录信息,一般都采用激光作热源,一个激光点只能记录1bit的信息量。由于     

聚氨酯球状颜料

联邦德国新开发一种商品名为Decosilk的颜料,用该颜料配制的涂料涂覆成型后具有“柔和的绒面”的手感,表观幽暗、抗搔伤。可作装饰填面、光学仪器     

感光性高分子的性能评价

所谓感光性高分子材料,是指吸收光能后在分子间和分子内产生物理化学变化的一类功能性高分子材料。从广义上讲,不仅是感光树脂,而且光导电材料、光电变换材料、光能储存材料、光记录、显示(光致变色)材料等都是感光性高分子材料;而在电子行业中通常所说的感光性树脂只是指光刻胶(光致抗蚀剂)而言。感光性树脂广泛地应用在电子、情报、印刷、精密加工和医疗等领域。本文讨论的感光性高分子是以下述几种感光性聚合物为     

电化学氧化降解氯嘧璜隆

为了建立操作简便、有效的电化学氧化处理氯嘧璜隆废水的工艺方法,采用循环伏安法和恒电流电解法研究了传质因素对氯嘧璜隆在Ti/SnO2-Sb2O3/PbO2阳极电化学氧化降解过程中的影响,并对各种影响传质和氯嘧璜隆降解反应中的因素进行了优化.采用循环伏安和紫外-可见光谱法初步研究了氯嘧璜隆在Ti/SnO2-Sb2O3/PbO2阳极上的电化学氧化机理;采用高效液相色谱法(HPLC)对电解反应过程中c(氯嘧璜隆)进行监测;采用重铬酸钾法对化学需氧量(COD)去除效果进行评价.实验结果证明,废水的性质、电解操作条件、废水传质条件等因素对氯嘧璜隆在Ti/SnO2-Sb2O3/PbO2阳极上的电化学降解都具有显著的影响,同时也证明了采用Ti/SnO2-Sb2O3/PbO2阳极电化学氧化处理含氯嘧璜隆废水的可行性.     

抗锅垢剂

联邦德国生产了一种商品名为POC AS2020(50％)的抗锅垢剂,它是一种低分子聚碳酸钠盐的50％的水溶液,可用于饮水用锅炉抗锅垢。POCAS2020(50％)属于抗水解的聚合物类。在高温下不分解,使用时加入很少的量就能阻止碳酸钙、硫酸钙以及其他一些碱     

日本感光材料市场现状

近几年日本感光材料的生产和销售情况见表1。表1 1987、1988年日本感光材料的生产销售情况(单位:百万日元)     

碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响

碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌如粗糙度、显微镜下的表面状况的影响做了研究,通过实验结果给出了特定要求条件下硅片腐蚀的最佳方案.运用硅的化学腐蚀机理分析了表面腐蚀状况的原因.