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讨论了一种非接触式IC卡在节水控制上的应用。通过STM32单片机和通用读卡芯片FM1702SL实现对MIFARE卡的读写增减等基本操作,给出了天线设计规范,采用SGL8022K触摸芯片实现触摸操作,具体给出了读卡器的硬件设计电路图和软件设计流程图,阐述了MIFARE卡的编程规则和使用方法。经实际使用证明,该系统具有电路稳定、读写基本无误、防掉电、易嵌入到其他模块组合使用、低功耗、低成本的良好性能,具有很大发展前景。 相似文献
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芯片传输装置是IC封装设备的一个关键部件,其工艺操作性能直接影响IC封装的生产效率和成品率。为了匹配当前芯片远距离传输工艺的新要求,对远距离芯片传输工艺进行了分析,提出了一种双旋转盘交替式直线轨道芯片传输方案。构建了传输装置结构模型,并进行了芯片传输实施方式描述。 相似文献
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IC卡工位数据写入器是一种IC卡读写系统,是连接IC卡和应用系统之间的信息桥梁。IC卡工位数据写入器是以单片机为核心,并配有IC卡接口电路、时钟芯片、显示电路、键盘、电源等。通过IC卡工位数据写入器把参数量值及时间等写入IC卡中,再由上位计算机将所有IC卡内的信息通过读卡器收集,最后建库管理。 相似文献
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基于单片机的嵌入式U盘控制器的设计与实现 总被引:5,自引:2,他引:3
本文针对现有U盘无法脱离PC机操作的局限性,提出了一种利用单片机控制USB主控接口芯片SL811HS实现嵌入式U盘控制器的方法,使得U盘可以用于嵌入式系统中。 相似文献
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针对芯片制造后道工序的需求,拟开发基于精密图像光学检测的IC全自动分检机以提高IC芯片的合格率和降低检测时间,本项目设备的研制,对实现半导体生产专用设备的国产化,缩短与世界先进水平的差距有着重要的意义,研制的IC全自动分检机将会具有广阔的市场前景和较大的社会效益。 相似文献
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设计制造出IC芯片粘片机焊头机构的实验平台.采用图像处理的方式来测量焊头的运动精度和定位精度等参数。实验结果表明:所设计的机构能满足IC芯片粘片机的工作要求,各项性能指标均达到了设计标准。 相似文献
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中国国家自然科学基金委员会机械学科 《数字制造科学》2007,5(4)
本着有限支持、重点突破的原则,将“超精抛光中纳米粒子行为和化学作用及平整化原理与技术”、“磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术”、“面向芯片封装的高加速度运动系统的精确定位和操纵”和“芯片封装界面制造过程多参数影响规律与控制”列为“先进电子制造中的重要科学技术问题研究”的4个研究课题,旨在针对硬盘驱动器(存储器)和IC(芯片级)制造中的关键科学问题开展基础理论和应用技术研究,建立面向下一代先进电子制造的理论体系和原型系统,为电子制造提供科学基础,为中国21世纪制造科学的发展开辟新的方向。 相似文献
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《机械工人(冷加工)》2014,(8)
正论文名称:IC薄芯片拾取建模与控制研究论文作者:华中科技大学/彭波指导教师:熊有伦、尹周平《研究领域:电子制造装备技术、RFID技术与应用、复杂产品数字建模与精密测量、高速视觉、机器人运动规划、加工/测量一体化》IC芯片的无损精确操作与转移是电子封装的核心支撑技术之一,直接影响到电子器件封装成品的的最终性能、成本、小型化以及服役可靠性与寿命,特别在IC芯片薄型化的趋势下意义显著。论文对芯片拾取的剥离机理与失效评估、工艺控制和新型机构等关键问题进行了系统深入的研究,取得了一些理论与实验成果,主要研究工作和创新之处体现在: 相似文献
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正IC芯片的无损精确操作与转移是电子封装的核心支撑技术之一,直接影响到电子器件封装成品的最终性能、成本、小型化以及服役可靠性与寿命,特别在IC芯片薄型化的趋势下意义更加显著。论文对芯片拾取的剥离机理与失效评估、工艺控制和新型机构等关键问题进行了系统深入的研究,取得了一些理论与实验成果,主要研究工作和创新之处体现在:研究了芯片-基板界面剥离的机理。针对芯片剥离行为,基于膜基结构界面断裂力学理论,分析了芯片-基板复合结构在顶针作用下的界面剥离机理,推导了界面能量释放率解析解;开展了工艺参数的影响分析,特别是薄芯片的应用对剥离过程的影响,给出了实用建议。 相似文献
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提出一种在标准感应式电能表的基础上增加单片机控制模块,通过计量芯片计量电能的智能IC卡电能表。用户和管理部门通过IC卡向电能表传送信息。详细地说明系统的功能与工作原理,并给出硬件框图与软件流程图。 相似文献
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针对芯片制造后道工序的需求,拟开发基于精密图像光学检测的IC全自动分捡杌以提高IC芯片的合格率和降低检测时间。本项目设备的研制,对实现半导体生产专用设备的国产化,缩短与世界先进水平的差距有着重要的意义,同时研制的IC全自动分捡杌将会具有广阔的市场应用前景和较大的社会效益。 相似文献
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介绍了集成电路(IC)在超精密加工技术中的发展。分析IC生产基本工艺流程与工艺技术,对影响IC发展的最新的3项关键生产技术进行研究;通过对国内外集成电路(IC)工艺装备的发展趋势进行分析,提出加工特征尺寸0.1~0.07μm的掩膜制造、光刻、刻蚀等关键装备以及芯片材料技术是IC技术创新和IC制造工艺设备的发展趋势。 相似文献