用于光纤陀螺系统的GaAs集成光学波导器件研究

光纤陀螺是一种完全静止型的光学传感器，为了进一步缩小它的体积，提高它的性能，将其光学处理部件集成光学化是必不可少的．GaAs材料具有优良的温度特性，抗辐射特性，以及优良的材料生长特性和微细加工特性，特别适合于要求高的光纤陀螺用的集成光学器件的研制。本文报导了工作于1．3μm光波波长，分束比为50：50（±5％），相位调制宽达到1GHz，半波电压小于10V，偏振器消光比大于60dB的光纤陀螺用集成光学器件的理论研究和实验研究的结果。     

履带式运动柔性衍射光学器件抑制激光散斑及其耐久性实验

为了有效抑制激光散斑,真正实现激光显示和成像系统的大色域、高亮度和超优画质,提出了基于履带式运动柔性衍射光学器件（Diffractive Optical Elements, DOE）的散斑抑制方法,对柔性衍射光学器件的设计、制造、耐久性和散斑抑制效果进行了研究。首先设计了柔性衍射光学器件的光学结构,并描述了履带式运动柔性衍射光学器件形成动态二维衍射编码的机理;接下来介绍了柔性衍射光学器件的模板制备、热压成型、连接成环的工艺方法;之后搭建激光投影显示系统对所研制的聚氯乙烯（Polyvinyl Chloride, PVC）和聚丙烯（Polypropylene, PP）两种材料的柔性衍射光学器件的散斑对比度和耐久性进行实验研究。实验结果表明,提出的基于履带式运动柔性衍射光学器件的激光散斑抑制方法,可将红绿蓝三色激光的散斑对比度降低到5%以下,同时系统具有小型化、低功耗的优点。在长达三十天的耐久性实验中,聚氯乙烯和聚丙烯两种材料的柔性衍射光学器件都没有明显形变和散斑抑制效果的衰减,且PP材料柔性DOE比PVC材料柔性DOE散斑抑制效果更明显、耐久性也更好。满足大色域、高亮度、超优画质的要求,并...     

建立在硅技术基础上的光学“或非”门

利用硅技术设计了一种能实现数字光学函数的光电集成器件。此器件实现了“或非”门，可以输入及输出光学信号，并可用于探测和发射600nm波长的光线。其有效检测范围为1mm^2，并能达到兆赫级的频率。     

用于光纤陀螺系统的GaAs集成光学波导器件研究

光纤陀螺是一种完全静止型的传感器，为了进一步缩小它的体积，提高它的性能，将其光学处理部件集成光学化是必不可少的。ＧａＡｓ材料具有优良的温度特性，抗辐射特性，以及优良的材料生长特性和微细加工特性，特别适合于要求高的光纤陀螺用的集成光学器件的研制。     

应用声光器件和光学滤波器实现电信号的实时子波变换

为实现输入电信号的实时传输,提出了应用声光器件和光学子波滤波器在光学范德拉格特(Vander Lugt)相关器中进行电信号实时子波变换的系统.选用的声光器件工作参数在正常布喇格区,可提高整个系统的信噪比,中心工作频率达100MHz.对变换系统中的主要参量进行了分析,认为系统需使用功率＞15 mW的激光器,且选用尺寸为1.8 mm的子波滤波器较为合适.给出了不同频率的电信号在含声光器件的二维Mexican-hat光学子波变换系统中的计算机模拟结果,表明所提出的系统能实现对输入电信号的实时子波变换.     

基于电润湿效应的自变焦补偿光学系统

变焦光学系统是照相机、摄像机等许多光学器件中的关键元件，实现变焦光学系统的微小型化及增大系统的变倍比是一个长期目标。研制了一种三液体自变焦补偿透镜，可在外加电压作用下实现自变焦补偿功能，因此该透镜元件本身可以作为一个简单的变焦光学系统。通过高斯光学理论分析及Zemax模拟仿真验证了该系统的自变焦补偿功能。结果表明，该系统焦距变化范围为378～424 mm，变倍比为1.217，达到了预期目标，对变焦光学系统的研究具有一定的参考价值。     

受温度影响的光学电流互感器稳定运行分析

长期稳定运行能力及可靠性水平是影响光学电流互感器实用化的重要因素,而其性能改变的关键因素是环境温度的变化。为了分析光学电流互感器的稳定运行能力,首先对构成光学电流互感器的光学元器件进行特性分析,得出与温度相关的参量;进而通过综合分析光学电流互感器的各种输出光强来判断几种光学器件的运行状况,从而得出光学电流互感器的稳定性运行能力与可靠性水平。     

浙大教授何赛灵当选美国光学学会会士

近日,美国光学学会（Optical Society of America）举行仪式,为新当选的54位美国光学学会会士（Fellow）颁发证书。浙江大学教授何赛灵因其在光子晶体、平面光波导器件和新型人工电磁介质等微纳光子学上的创造性工作,而成为其中一员。他也是这些新会士中,唯一一位在中国大陆工作的学者。     

一种微透镜--针孔阵列合成器件的制作方法

微透镜阵列与针孔阵列的组合光学器件是全场共焦检测中的一个关键器件，微透镜中心与针孔中心要求严格对准，相应的装配对准精度应控制在几微米之内，本文给出了一种可进行5自由度高精度调节，并利用光学显微镜进行实时监测的对准方法。     

像素级光学滤波-探测集成器件的研究进展

传统光谱成像系统采用探测器与传统分光元件耦合的方式,体积较大、定制化能力不足。微/纳光机电系统的快速发展,为微型化光谱成像系统提供了解决途径。基于表面等离激元学和光学超表面的微纳滤波结构,可实现像素级的光场调控,有望替代传统滤波器件并具有与成像系统片上集成的潜力。近年来,集成了动态或静态滤波结构的光谱成像微系统已崭露头角,逐渐构建起全新的光谱成像方法,但在原理机制、器件性能、制造成本、集成装配工艺等方面还有许多需要攻克的难题。本文综述了国内外在像素级微纳滤波结构、滤波和成像器件的集成制造和装配等方面的研究进展,梳理了光学滤波-探测集成器件的发展脉络,探讨了其局限性并展望了发展趋势。     

实验产生超分辨光学聚焦暗斑

用二元相位器件调制角向偏振激光光束,然后用高数值孔径物镜聚焦,在实验上产生了一个超分辨光学聚焦暗斑。二元相位器件的调制作用是通过让角向偏振光束经一块刻有多环同心环状凹槽的玻璃基板实现的。用刀口法检测了焦点附近的3D光束分布特性,得到了尺寸是0.32λ且在4λ左右的长度内保持不变的超分辨暗斑。这样的光学聚焦暗斑可能会应用于超分辨显微技术和光学捕获。     

AOM2009论文投稿邀请通知

国际会议“光学特异材料与器件及其应用”Applications of Optical Metamaterials（AOM）将于2009年6月22日-25日在南开大学举行,会议由中国光学学会（COS）和美国光学学会（OSA）联合主办,南开大学现代光学研究所承办。     

AOM 2009论文投稿邀请通知

国际会议“光学特异材料与器件及其应用”Applications of Optical Metamaterials（AOM）将于2009年6月22日－25日在南开大学举行,会议由中国光学学会（COS）和美国光学学会（OSA）联合主办,南开大学现代光学研究所承办。     

精密可控工作台的实验研究

实验探讨和研究了精密可控工作台的位移测量系统，计算机控制系统和微位移系统。实现了传统光学到尺数字化，使具有0．5mm刻度值的标准刻尺达到了1μm的分辨率和2μm的测量精度，并成功地用于精密可控工作台的位移实时测量，具有一定的实用价值。     

上海光机所研制成功三维达曼光栅

近日,中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室周常河课题组发明了一种新型衍射光学器件——达曼波带片(DZP),并基于此器件,发明了三维达曼光栅。该光栅可将通常透镜的一个焦点转换     

衍射光学器件的激光辅助制造

衍射光学器件 DOE是基于衍射光学原理制成的微光学器件。采用类似于微电子加工手段的激光辅助制造技术——激光直写技术 ,可以制作具有高衍射效率的 DOE。激光直写系统的性能 ,比如光强控制、坐标定位以及自动对焦等 ,直接影响制成器件的衍射效率。最后对曲面衍射光学器件激光辅助制造的关键技术进行了分析     

衍射光学器件的激光辅助制造

衍射光学器件DOE是基于衍射光学原理制成的微光学器件.采用类似于微电子加工手段的激光辅助制造技术--激光直写技术,可以制作具有高衍射效率的DOE.激光直写系统的性能,比如光强控制、坐标定位以及自动对焦等,直接影响制成器件的衍射效率.最后对曲面衍射光学器件激光辅助制造的关键技术进行了分析.     

衍射光学器件的激光辅助制造

衍射光学器件DOE是基于衍射光学原理制成的微光学器件.采用类似于微电子加工手段的激光辅助制造技术--激光直写技术,可以制作具有高衍射效率的DOE.激光直写系统的性能,比如光强控制、坐标定位以及自动对焦等,直接影响制成器件的衍射效率.最后对曲面衍射光学器件激光辅助制造的关键技术进行了分析.     

北京欧普特科技有限公司简介

《北京欧普特科技有限公司》是一家高科技光谱仪器销售及光学器件制造公司，她与美国ASD公司有着长期的友好合作关系。LabSpec Pro-以及5000／5100可见光／近红外光谱仪，因其特有的便携式设计以及宽广的光谱检测范围（350-2500nm），而被业内人士尊称为《可移动的近红外光谱分析实验室》。如今该仪器已经销往世界上50多个国家，她以优质和高可靠性得到了客户们的喜爱，她是现在及未来产品质量检测的优良解决方案。     

光学仿真算法的CAD系统实现

随着光电子集成和各种平面波导器件的集成度、复杂度越来越高以及光器件的结构越来越精密,用解析的方法对器件进行分析和设计已经无法实现。为实现光学器件的良好设计,以有限差分光束传播法（FD-BPM）为仿真算法开发了光学芯片仿真软件,实现了光波导器件的模拟仿真。由该仿真结果与Matlab仿真结果的对比可知,该仿真软件能达到显示波导状态的基本要求。